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PHI ADEPT 1010 動態二次離子質譜儀

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PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司(以下簡稱"高德")2010年在北京成立。高德公司秉承"為一.流的商業產品提供頂級的創新市場營銷、售后服務和技術應用支持"的服務理念,為全.亞洲的客戶提供服務和支援。

高德作為 ULVAC-PHI 在中國地區提供銷售及售后服務的唯.一公司,產品主要集中在表面分析儀器,包括XPSAESTOF-SIMS,同時也提供EllipsometerMBEALD等設備。高德可為客戶提供從產品策略性營銷規劃到產品應用及售后服務的完整解決方案。

高德憑借為客戶提供業界最佳的產品和服務來為客戶賦能,從而幫助客戶創造最大價值。高德目前在中國地區已經建立起全.方位銷售網絡,銷售合作伙伴遍布全國,客戶包括國內知.名高校、科研院所以及高新技術企業等。高德技術人員皆具備多年使用超高真空和精密電子分析儀器的經驗,售后服務網點和人員分布于全國各大區域,可在第一時間為客戶提供及時、高效、完善的支持服務。

 

表面分析儀器

價格區間 面議 儀器種類 飛行時間
應用領域 化工,電子,綜合

優勢

ULVAC-PHI 最新設計的四極桿-二次離子質譜儀ADPT1010,在原有的PHI6300和PHI6600的基礎上,改善了離子光學系統,是在一次離子能量低至250eV時,仍保持有效的濺射束流的動態二次離子質譜系統(D-SIMS)。

 

特點

  1. 大束流低能量離子槍設計,極大的提高了深度分辨率

  2. 高性能離子光學系統,改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度

  3. 高精度全自動5軸樣品操控臺

  4. 不同方向進入檢測器的二次離子,均可被高靈敏地收集檢測

 

應用實例分析

采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下,分析GaAs中注入的H,C,O元素。可以看到H檢測限值7.1X1016 atm/cm3O檢測限值4.4X1015 atm/cm3,C檢測限值2.0X1015 atm/cm3

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