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Park XE15 原子力顯微鏡

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原子力顯微鏡

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西努光學創建于2003 年,主營工業顯微鏡及制樣設備、鏡片測定設備,高速攝像系統、工業內窺鏡、機器視覺等工業及科研應用的檢測設備及系統集成。
西努光學秉承“以光學為核心,為客戶提供解決方案”的經驗思路,經過16年的努力,成為眾多企業、高校科研單位提供各種專業化的光學系統解決方案。并于2012 年導入SAP 管理系統,通過系統資源整合,為客戶提供更優質、快捷的專業化服務。
2016 年,我們積極引進檢測設備的同時導入制樣等配套設備以豐富我們實驗室平臺,以更好的為客戶提供現場體驗,從微米到納米滿足客戶從制樣到結果分析的一站式體驗服務。



奧林巴斯顯微鏡,奧林巴斯工業內窺鏡,iX高速攝像機,標樂金相制樣設備,威爾遜硬度計,navitar鏡頭,日立掃描電鏡,加拿大WDI光學設備

產地類別 進口 應用領域 電子/電池

Park XE15具有眾多的*功能,是處理多種樣品的共享實驗室、進行多變量實驗的研究院以及晶片故障分析工程師的*。同時,合理的價格和穩健的功能使之成為業內最*的大型樣品原子力顯微鏡之一。

Park XE15能夠一次性掃描和測量多個樣品,讓您的效率一高再高。您只需要將樣品放入工作臺,再啟動掃描程序便可。該功能也可以讓您在相同的環境條件下掃描樣品,從而提高數據的精確性和穩定性。

與大多數的原子力顯微鏡不同,Park XE15可掃描最大尺寸為200 mm x 200 mm的樣品。這樣既滿足了研究員對掃描大樣品的需求,也讓故障分析工程師能夠掃描硅片。

Park XE15配有絕大多數的掃描模式,可掃描各種尺寸的樣品。得益于此,Park XE15是共用實驗室的最佳配置,能夠滿足每個人的需求。

Park XE15 原子力顯微鏡
· 一次性自動多樣品成像
· 特別設計的多樣品卡盤,可裝載多達16個樣品
· 全機動XY軸樣品臺,行程范圍達150 mm x 150 mm
借助電動樣品臺,MultiSample™掃描模式能夠允許用戶自行編程,借助自動化步進掃描,實現多區域成像。
流程如下:
1.記錄用戶定義的多個掃描位置
2.在第一個掃描位置成像
3.提升懸臂
4.將電動樣品臺移至下一個用戶定義坐標
5.探針接近
6.重復掃描
記錄多個掃描位置十分簡單,您可以輸入樣品-樣品臺坐標或使用兩個參考點校正樣品位置。該自動化功能大大減少您在掃描過程中需要的工作,極大提高了生產力。

 

Park Systems的*串擾消除(XE)掃描系統能夠有效解決上述問題。我們使用了二維柔性平臺專門掃描樣品的XY軸位置,并通過壓電疊堆傳動裝置專門掃描探針懸臂的Z軸位置。用于XY軸掃描的柔性平臺采用了固體鋁材,其具有超高的正交性和出色的平面外運動軌跡。柔性平臺可在XY軸掃描大型樣品(1 kg左右),頻率最高達100 Hz左右。由于XY軸的帶寬要求遠低于Z軸的帶寬要求,因此該掃描速度已然足夠。用于Z軸掃描的壓電疊堆傳動裝置具有大的推拉力和高共振頻率(約10 kHz)。

 

圖9展示了XE系統(a)和傳統原子力顯微鏡(b)掃描硅片時,未處理的成像圖。由于硅片屬于原子級光滑材料,因此圖像中的彎曲大多數是掃描器所引起的。圖9(c)展示了圖9中(a)(b)圖像的橫截面。由于管式掃描器本身帶有背景曲率,因此當X軸的位置移動15 μm時,平面外移動最大可達80 nm。而在相同的掃描范圍內,XE掃描系統的平面外移動則不超過1 nm。XE掃描系統的另一大優勢是Z軸伺服回應。圖10是XE掃描系統在無接觸模式下拍下的一個多孔聚合物球體(二乙烯苯)的圖像,其直徑大約為5 µm。由于XE掃描系統的Z軸伺服回應極其精準,探針可以精確地沿著聚合物球體上的大曲率以及小孔平面結構移動,而不會壓碎或粘連在其表面上。圖11是Z軸伺服回應在平坦背景上高性能的表現。

在True Non-Contact™模式中,探針尖頭與樣品的距離在相互原子力的控制下,被成功地控制在幾納米之間。探針尖頭振動幅度下,大大減少了探針與樣品的接觸,從而完好地保護了探針和樣品。

原子力顯微鏡探針的尖頭十分脆弱,這使得它在接觸樣品后會快速變鈍,從而限制原子力顯微鏡的分辨率和圖像的質量。對于材質較軟的樣品,探針會破壞樣品,導致其高度測量不準確。相應地,探針保持完整性意味著顯微鏡可以持續提供高分辨率的精確數據。XE系列原子力顯微鏡的真正非接觸模式能夠極大程度保護探針,從而延長其壽命,并減少對于樣品的破壞。下圖中以1:1的長寬比展示了XE系列原子力顯微鏡掃描淺溝道隔離樣品的未處理圖像,該樣品的深度由掃描電子顯微鏡(SEM)確定。在成像20次之后,探針幾乎有沒任何磨損。



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