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電路板電鍍膜厚無損檢測儀

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    深圳市天創(chuàng)美科技有限公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質(zhì)譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質(zhì)譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)、礦漿載流在線采樣儀(OSA)等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測等)、玩具安全(EN71-3等),F963中規(guī)定的有害物質(zhì):鉛Pb、砷As、銻Sb、鋇Ba、鎘Cd、鉻Cr、Hg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質(zhì)采礦(各種礦石品位檢測設(shè)備)、塑料(無鹵測試等)、石油化工、高嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、環(huán)境保護、香精香料、紡織品、醫(yī)藥、商品檢驗、質(zhì)量檢驗、人體微量元素和化合物檢驗等等。銷售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析,化合物測試,電鍍鍍層厚度檢測等。






能量色散X熒光光譜儀,ROHS ROHS2.0 REACH指令檢測儀|化合物分析|元素分析儀|土壤檢測儀|ROHS檢測儀|合金檢測儀|元素分析儀|礦石檢測儀|含鉛量檢測儀

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,電子/電池,鋼鐵/金屬,電氣,綜合

電路板電鍍膜厚無損檢測儀

產(chǎn)品詳情

技術(shù)特點

1、多鍍層分析,15層;

2、測試精度:0.001 μm

3、元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)

4、測量時間:40-120秒;

5SDD探測器,能量分辨率為125±5eV

6、探測器Be0.5mil12.7μm);

7、微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);

86個準(zhǔn)直器及多個濾光片自動切換;

9XYZ三維移動平臺,MAX荷載為5公斤;

10、高清CCD攝像頭(200萬像素),準(zhǔn)確監(jiān)控位置;

11、多變量非線性去卷積曲線擬合;

12、高性能FP/MLSQ分析;

13、儀器尺寸:618×525×490mm

14、樣品臺尺寸:250×220mm

15、樣品臺移動范圍:160*160*100mm

應(yīng)用領(lǐng)域:

1PCB電路板電鍍:這個行業(yè)是使用鍍層測厚儀很多的,占每年銷量相當(dāng)大的比例,是主要用戶群體。

2、管道防腐:主要以石化方面的用戶比較多,一般防腐鍍層比較厚。

3、鋁型材:今年以來受國家實施強制標(biāo)準(zhǔn),型材企業(yè)換發(fā)許可證的影響,該行業(yè)出現(xiàn)好勢頭,主要測型材上面的氧化膜,據(jù)了解生產(chǎn)企業(yè)每少鍍一微米,一噸型材“節(jié)約”150元,非常可觀,因此國家強制要求配備包括鍍層測厚儀在內(nèi)的相關(guān)檢測設(shè)備。

軟件特性

1. 高性能高精度 X 熒光光譜儀(XRF

2. 計算機 / MCA(多通道分析儀)

2048 通道逐次近似計算法 ADC(模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器)

3. Multi Ray. 運用基本參數(shù)法(FP)軟件,對樣品進行精確的鍍層厚度分析,可對鍍液進行定量分析。

MTFFP (多層薄膜基本參數(shù)法) 模塊進行鍍層厚度及全元素分析 勵磁模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A1

吸收模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A2

線性模式進行薄膜鍍層厚度測量

相對(比)模式 無焦點測量 DIN 50987.3.3/ ISO 3497

多鍍層厚度同時測量 單鍍層應(yīng)用 [如:Cu/ABS ]

雙鍍層應(yīng)用 [如:Ag/Pd/Zn, Au/Ni/Cu ] 三鍍層應(yīng)用 [如:Au/Ni-P/Cu/Brass ] 四鍍層應(yīng)用 [如:Cr/Ni/Cu/Zn/SnPb ]

合金鍍層應(yīng) [如:Ni-Zn/Fe Sn-Ni/ABS Pd-Ni/Cu/ABS ]

4. Multi-Ray. 快速、簡單的定性分析的軟件模塊。可同時分析 20 種元素。半定量分 析頻譜比較、減法運算和配給。

Multi-Ray 金屬行業(yè)精確定量分析軟件。可同時分析 8 種元素。最小二乘法計算峰 值反卷積。采用盧卡斯-圖思計算方法進行矩陣校正及內(nèi)部元素作用分析。金屬分析精度可達±0.02%,貴金屬(8-24 Karat) 分析精度可達±0.05kt Multi-Ray. 對鍍液進行分析。采用不同的數(shù)學(xué)計算方法對鍍液中的金屬離子進行測定。含全元素、內(nèi)部元素、矩陣校正模塊。

5. Multi-Ray WINDOWS 7 軟件操作系統(tǒng)

電路板電鍍膜厚無損檢測儀



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