射頻離子源應(yīng)用于車(chē)載攝像頭鏡片鍍膜工藝
- 公司名稱(chēng) 伯東企業(yè)（上海）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2023/7/4 16:17:41
- 訪問(wèn)次數(shù) 382
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| 供貨周期 | 一個(gè)月以上 |
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KRi 射頻離子源應(yīng)用于車(chē)載攝像頭鏡片鍍膜工藝, 實(shí)現(xiàn)車(chē)載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透
車(chē)載鏡頭的鍍膜非常重要, 鍍膜的核心用途就是增加透光率. xian進(jìn)的鍍膜技術(shù)可以大限度地減少反光, 通過(guò)減少光在折射界面的反射而增加光線(xiàn)的透過(guò)率, 保證通光率, 從而保證鏡頭的佳畫(huà)質(zhì). 在車(chē)載攝像頭鏡片加工鍍膜環(huán)節(jié), 鍍膜機(jī)通過(guò)加裝上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源對(duì)于加強(qiáng)膜層致密性, 實(shí)現(xiàn)車(chē)載鏡頭減反, 塑膠鏡片增透, 明顯提升工藝效果.
KRi 離子源原子水平上在材料表面沉積薄膜
KRi 離子源安裝于精密光學(xué)鍍膜機(jī)
對(duì)智能型手機(jī)鏡頭, 車(chē)用鏡頭, VR 虛擬現(xiàn)實(shí)鏡頭的塑膠光學(xué)鏡頭鍍膜, 通過(guò)使用射頻離子源 RFICP 325 成功鍍膜于塑膠基板并且通過(guò) 1,500 小時(shí)高溫高濕嚴(yán)苛環(huán)境測(cè)試
鍍膜材料: 高折射率材料 Ti2O5 (氧化鈦）, 低折射率材料 SiO2 (氧化硅）
鍍膜設(shè)備: 1米7 的大型蒸鍍?cè)O(shè)備, 配置美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 325
測(cè)試環(huán)境: 80C / 80% 濕度, 85C / 95% 濕度, 連續(xù) 1,500 小時(shí)高溫高濕嚴(yán)苛環(huán)境測(cè)試
美國(guó) KRi RFICP 射頻離子源技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽(yáng)極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 | ||||
上海伯東美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過(guò)柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國(guó) KRi 離子源中國(guó)總代理.
上海伯東同時(shí)提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶(hù)生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專(zhuān). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
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上海伯東: 羅先生
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