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化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>光學成像設備>高光譜儀/高光譜成像儀> IMA™熒光高光譜成像系統

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IMA™熒光高光譜成像系統

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高光譜成像系統

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八帆儀器設備(上海)有限公司是創建于2017年,是集測試測量、研發、生產、銷售、服務為一體的高科技公司,亞太區總部位于中國上海。并在北京設立辦事處。八帆儀器設備(上海)有限公司致力于代理和應用*成熟的測試測量儀器及技術,應用于材料,物理,光學,化學,生物等領域。同時與國內外研發機構合作研究開發高精密測試測量技術及設備定制。有各*機構的技術支持,匯集有行業的精英技術團隊,負責產品及方案設計、生產制造、售前售后服務。

原子力顯微鏡,原子力拉曼,有機合成質譜儀,制備色譜,納米紅外光譜儀,掃描近場光學顯微鏡,電鏡下原子力,微米級3D打印機,

成像方式 濾光片型 工作原理 濾光片型
價格區間 面議 使用狀態 機載
應用領域 綜合

IMA™熒光高光譜成像系統介紹:

IMA™高光譜顯微鏡平臺可提供同樣高的光譜和空間分辨率。將這個模塊化系統配置為快速掃描VIS,NIR和/或SWIR光譜,可同時繪制光致發光,電致發光,熒光,反射光和透射光的組合。每個IMA™都配備了高吞吐量的全局成像濾鏡;這使其比依賴掃描光譜的高光譜系統更快地測量百萬像素超立方體。

IMA™為您打開了大門

  • 執行復雜的材料分析,例如太陽能電池表征和半導體質量控制(例如:鈣鈦礦,GaAs,SiC,CIS,CIGS等)。

  • 在復雜的環境(包括活細胞和組織)中研究IR標記。以在第二生物窗口中發射的IR熒光團的光譜異質性為例。

  • 檢索暗場圖像并獲得透明和未染色樣品(例如聚合物,晶體或活細胞)的對比度。

IMA™熒光高光譜成像系統特點:

  • 快速全局映射(非掃描)
  • 高空間和光譜分辨率
  • 完整的系統(源,顯微鏡,相機,濾鏡,軟件)
  • 無損分析
  • 可定制
  • 可見光范圍從400到1000 nm,SWIR范圍從900 nm到1700 nm

技術指標:

光譜范圍

VIS-SWIR型號 
400-1620 nm

可見光 
400-1000 nm

短波 
900-1620 nm

光譜分辨率<2納米<4納米
相機CCD,EMCCD,sCMOSZephIR 1.7

激發波長 
(多3個激光)

405、447、532、561、660、730、785或808 nm
顯微鏡直立或倒立;科學級
空間分辨率

亞微米 
(受顯微鏡物鏡NA限制)

大樣本大小10厘米x 10厘米
X,Y旅行范圍76毫米x 52毫米
Z-階段分辨率100納米
照明 
照明選項
透射,透射,LED,HG,落射 
熒光模塊,暗場模塊
波長jue對精度0.25nm
視頻模式百萬像素相機用于樣品可視化
數據處理空間過濾,統計工具,頻譜提取,數據歸一化,頻譜校準,疊加,中心位置圖等。
超光譜數據格式HDF5,FITS
單圖像數據格式HDF5,CSV,JPG,PNG,TIFF
軟件PHySpec™控制和分析(包括計算機)
尺寸圖≅150厘米x 85厘米82厘米
重量≅80公斤
 
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