| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,化工,能源,電子 |
高精密光學鍍膜機
FHR.Star.220 磁控濺射鍍膜機 是一款特殊設計 , 結構緊湊的濺射臺，用于晶片類基底或基底承載器的工藝處理。鍍膜工藝通過不加熱的背板盛放基底承載器并旋轉實現。每個濺射源可軸向和水平方向調節，因此，可實現不同高度基底多種靶基距范圍的鍍膜工藝。機械手通過上料盒升降裝置的上下移動傳輸基底承載器。基底的依次鍍膜工藝通過自動編程自動得以實現。
高精密光學鍍膜機設備詳情：
基片大尺寸：直徑6英寸
進樣室類別：盒式載片器進樣室
濺射靶位：多6個
設備尺寸：3300mm×1300mm×2500mm
重量：3000Kg
可選件：基片加熱、靶基距可調、RF等離子體刻蝕
工藝氣體：氬氣（Ar），可選氧氣（O2），氮氣（N2）
膜厚均勻性：±5%
極限真空：5×10-7mbar
Star.220 磁控濺射鍍膜機典型應用：硅基半導體、化合物半導體、功率半導體、MEMS、傳感器微電子、光電子
北京朗銘潤德光電科技有限公司是一家在半導體微電子、高精密光學鍍膜領域，光伏、光熱、鋰電池等新能源領域以及窗膜、汽車膜、柔性電路板等行業提供專業相關工藝設備的代理公司。
從2006年起與德國著名微電子設備專業廠家FHR公司開始合作，并于2008年成為其中國區的代理機構。通過我們的合作，使 FHR的產品逐漸進入中國，并成為國內鍍膜設備的供貨商。
我們于 2010 年在北京石景山中關村高科技園區成立了專業代理國外微電子半導體及相關設備的北京朗銘潤德光電科技有限公司，并與*技術供貨商建立合作關系，為公司全面化運轉及操作奠定了良好開端。
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