醫用集菌儀生產商,全封閉微型智能集菌儀型號,集菌儀廠商,集菌過濾器制造商
產品介紹
上海歸永根據《中國藥典》以及歐、美、日等國藥典的有關規定，我公司可提供二聯（二組培養基）和三聯（三組培養基）兩種集菌，在全封閉條件下，進行無菌檢測，大限度的避免檢測過程的外源性污染。集菌儀與集菌培養器配套使用，廣泛適用于無菌制劑的無菌檢查，包括抗生素類及含有抑菌成分的制劑、無菌原料藥、大輸液、水針劑、滅菌醫療器具、滅菌注射用水等，亦可配合薄膜過濾器用于藥品、食品、飲料等行業的微生物限度檢查。歸永液晶顯示全封閉智能集菌儀廠家價格

產品說明
凈化室集菌儀的作用是檢驗供試品是否含菌的儀器，配套集菌培養器使用。它的一個檢測過程是這樣的：讓供試品通過進樣管道連續被注入凈化室集菌儀培養器中，然后利用集菌培養器內形成的下壓，通過0.45微米孔徑的濾膜過濾，供試品中可能存在的微生物被截留收集在濾膜上，我們通過沖洗濾膜除去供試品的抑菌成分。然后就可以把所需培養基通過進樣管道直接注入集菌培養器中，放置規定的溫度培養，凈化室集菌儀觀察是否有長菌現象。它可以用于食品、飲料行業等微生物限度檢查。
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產品特征
智能集菌儀圓形卡口設計：傳統式直角卡口在裝軟管的時候都是很費勁的，有時候還會把管子卡破，造成了經濟上的損失，現在圓形卡口，可以輕輕一卡，軟管就可以進去，非常方便。
智能集菌儀采用新型泵頭：過濾時更順暢，更均勻，更安全。
分體式的排液槽設計：可以自由移動，方便操作人員的操作。槽內為弧形設計，廢液不會殘留在槽內，解決了長期實驗后可能會產出的細菌。
一體化開關設計：避免在機殼上開過多的孔，使機殼的清潔度更高，更人性化。
大液晶顯示器操作簡單直接，并有暫停記憶功能。
扳手根據人體力學設計而成，可以輕松將皮管卡牢。
整體采用L304不銹鋼一體化機殼設計，解決了無菌空間，提高了使用壽命。 
瓶形支架設計：解決了傳統的大瓶支架、小瓶支架更換帶來的麻煩 和操作過程中供試品掉下來的風險。瓶形支架將供試品牢牢固定在支架上，即安全，又美觀。
固定檔位設計：設有無級檔位（主要是四大檔位“40R”“ 60 R”“ 160R”“ 240R” ），可以滿足各大大輸液、粉針、水針等各種劑量供試品的過濾全部需求。
增設腳踏開關，更便于實驗操作。

工作環境
(1)環境要求：潔凈的實驗室內或凈化工作臺中。
(2)環境溫度：4℃~25℃
(3)相對濕度：≤90%RH以下(無水珠凝結現象)
(4)工作電源：220V/50HZ  歸永液晶顯示全封閉智能集菌儀廠家價格
(5)電器安全：儀器要求接地，接地可靠．接地阻抗≤4n，接地線的線徑在1.6mm以上。
上海歸永生產的智能集菌儀GY-ZNJJY是一次性使用全封閉集菌培養器的配套使用設備，廣泛適用于注射用無菌制劑的無菌檢測，包括抗生素類及含有抑菌成份的藥品、大輸液、水針劑、滅菌醫療器具、無菌注射用水等，也可用于食品、飲料行業等微生物限度檢查。

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實驗室品管標準品于試劑水中添加已知濃度的待測物，并經過與樣品相同的制備與分析的步驟者。此系用來檢查樣品漏失/回收率值。標準添加法標準添加法系針對未知樣品，及于未知樣品中添加數個已知但不同量之標準品，分別進行分析。樣品有效期限于的保存和儲存條件下，樣品采集后至樣品分析前的有效期間。檢量線須每天制備，至少要有一個空白及四個濃度標準溶液,檢量線完成后，須用至少一個檢量線空白及一個在中間濃度附近檢量線查核標準溶液(由參考物質或其它獨立來源的標準品制備)確定檢量線準確度。檢量線參考標準品之檢測值與真實值之偏差在10%以內，此檢量線才可認為有效。稀釋測試每一分析批次選擇一具代表性之樣品進行系列稀釋，以決定是否有干擾存在。待測物的濃度必須至少是預估偵測極限的25倍。先測定未稀釋樣品的粗濃度后，稀釋至少5(1+4)倍再重新分析。假如此批次的所有樣品濃度皆低于偵測極限的10倍，則以下節所述的添加回收分析為之。如果未稀釋的樣品濃度與稀釋樣品濃度的5倍值相差在10%以內則表示無干擾存在，則不需使用標準添加法分析。回收率測試假如稀釋測試的結果不符合上述的要求，則表示干擾可能存在，此時須分析添加樣品以助于確定稀釋測試的結果。另外取一部分的測試樣品，加入一已知量的待測物使待測物濃度為原濃度的2到5倍;假如該批次的待測物濃度皆低于偵測極限，則將所選擇的樣品添加偵測極限的20倍。分析該添加樣品，并計算添加的回收率。假如回收率低于85%或高于115%，則該批次所有樣品皆須以標準添加法分析之。標準添加法標準添加技術意指將已知量的標準品加至一或多個處理的樣品溶液中。此技術可補償由于樣品之組成對分析訊號的增強或降低所導致之斜率偏差(樣品之斜率不同于檢量線的)現象，但無法校正加成性干擾所造成之基線偏移。標準添加法應用于所有萃取程序萃取液之分析、申請表列排除(delisting petition)之委托分析、及每一種新樣品基質之分析。
光譜干擾可分為不同元素光譜的重疊;分子光譜無法解析的重疊;由光譜連續現象造成之背景;因高濃度元素迷光造成干擾。光譜的重疊可單獨測定干擾元素，再對重疊光譜加以修正。子光譜之重疊則需選擇不同波長來源。至于背景值與高濃度光譜可經由基線的調整得到修正。多元素同時測定時定樣儀器偵測頻道中無元素間造成之光譜干擾，由于每一儀器系統不同。物理干擾
在樣品霧化及傳送過程中，因黏度及表面張等性質之改變，尤其若樣品中含有高溶解度固體或酸度過高時，則易造成明顯之分析誤差，利用蠕動泵將可降低這類干擾;若類干擾仍存在時必須將樣品稀釋或利用標準添加法予以修正。此外，含高濃度鹽類在噴霧器上沉積而影響分析結果，可將樣品稀釋或利用噴嘴洗滌器以減少。而氬氣流量之大小亦會影響儀器之使用流量控制器。
化學干擾指形成分子狀態、離子效應及溶質揮發效應等擾。通常這些效應在ICP的技巧上并不顯著，但若仍存在時，則可改變操作條件(如，入射功率，觀測位置)或加入適當緩沖品、適當基質或使用標準添加法，使干擾減至。
除塵灰塵多為帶有微量靜電的微小塵粒，常飄浮于空氣中，隨氣流而動，遇物便附著其上，幾乎*。灰塵附著在模型標本上會影響其色澤，運動部件上有灰塵會增大磨損，電器上有灰塵，嚴重者會造成短路、漏電，貴重精密儀器上有灰塵，嚴重者會使儀器報廢。清除灰塵的方法很多，主要應依灰塵附著表面的狀況及其灰塵附著的程度而定。在干燥的空氣中，若灰塵較少或灰塵尚未受潮結成塊斑，可用干布拭擦，毛巾撣刷，軟毛刷刷等方法，清除一般儀器上的灰塵;對儀器內部的灰塵可用皮唧、洗耳球式打氣除塵，也可用吸塵器吸塵;對角、縫中的灰塵可將上述幾種方法結合起來除塵。
不過對貴重精密儀器，如光學儀器、儀表表頭等，用上述方法除塵也會損壞儀器，此時應采用特殊除塵工具除塵，如用鏡頭紙拭擦，沾有酒精的棉球拭擦等。在空氣潮濕，灰塵已結成垢塊時，除塵應采用濕布拭擦，對角、縫中的灰垢可先用削尖的軟大條剔除，再用濕布試擦，但是對掉色表面、電器不宜用濕布拭擦。若灰垢不易拭擦干凈，可用沾有酒精的棉球進行拭擦，或進行清洗。清洗儀器在使用中會沾上油膩、膠液、汗漬等污垢，在貯藏保管不慎時會產生銹蝕、霉斑，這些污垢對儀器的壽命、性能會產生極其不良的影響。清洗的目的就在于除去儀器上的污垢。通常儀器的清洗有兩類方法，一是機械清洗方法，即用鏟、刮、刷等方法清洗;二是化學清洗方法，即用各種化學去污溶劑清洗。具體的清洗方法要依污垢附著表面的狀況