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化工儀器網>產品展廳>物理特性分析儀器>測厚儀>白光干涉測厚儀>F10、F20、F40、F50、F-60 硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度

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F10、F20、F40、F50、F-60 硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度

參考價 10
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


岱美有限公司(下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經驗的性高科技設備分銷商,主要為半導體、MEMs、光通訊、數據存儲、高校及研發中心提供各類測量設備、工序設備以及相應的技術支持,并與一些重要的客戶建立了*合作的關系。

自1989年創立至今,岱美的產品以及各類服務、解決方案廣泛地運用于中國大陸、香港、中國臺灣、新加坡、泰國、馬來西亞、菲律賓等地區。
主要產品包括有:EVG晶圓鍵合設備、EVG納米壓印設備、EVG紫外光刻機、EVG涂膠顯影機、EVG硅片清洗機、EVG超薄晶圓處理設備、壓力計、流量計、等離子電源、非接觸式光學三坐標測量儀、薄膜厚度檢測儀、電容式位移傳感器、振動樣品磁強計 (VSM)、粗糙度檢測儀、電鏡 (SEM)、透鏡 (TEM)、原子力顯微鏡 (AFM)、防振臺系統、三維原子探針材料分析儀 (Atom Probe)、激光干涉儀、平面/球面大口徑動態激光干涉儀、氦質譜檢漏儀、紫外線固化儀、碳納米管生長設備等。
岱美中國擁有八十多名訓練有素的工程師,能夠為各地區用戶作出快捷、可靠的技術支持和維修服務;為確保他們的專業知識得以更新及并適應新的要求,岱美定期委派工程師前往海外接受專項技術訓練,務求為顧客提供更高質素的售后服務及技術支持。
總部位于中國香港的岱美分別在新加坡、泰國、中國臺灣、馬來西亞、菲律賓及中國大陸(上海、東莞及北京)設立了分公司及辦事處,以帶給客戶更快捷更的銷售及維修服務。
我們真誠希望和業界的用戶互相合作,共同發展!!
     

膜厚測量儀、隔震臺、磁強計

產地類別 進口 價格區間 面議
應用領域 化工,生物產業,電子,航天,電氣

廠家正式*代理商:岱美有限公司

      岱美有限公司與Filmetrics從03年開始的合作關系,單是國內16年間已賣出超過600臺不同型號儀器,在國內有多個服務處均有工程師,保證能為客戶提供及時的服務。

免費樣機演示及測量

輕輕一按即可實現測量!

請聯系我們,專業的應用工程師將為你演示它是如此的方便!

 

Filmetrics硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量功能強大,測量厚度從1nm到10mm

 薄膜特性表征工具/光學參數測量/反射率測量/厚度測量/透射率測量,應用于半導體材料厚度測量、非金屬材料厚度測量、光刻膠、光學掩膜、介電薄膜、晶圓表面涂層厚度測量、圓晶薄膜厚度測量、硅片表面涂層材料厚度測量,研究透光性材料的工具。

     硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量儀 F20都能測量薄膜厚度、光學常數,還是想要知道材料的反射率和透過率。僅需花費幾分鐘完成安裝,通過USB連接電腦,設備就可以在數秒內得到測量結果。基于某模塊化設計的特點,硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚—Filmetrics  F20適用于各種應用:

  測量厚度、折射率、反射率和穿透率:

-     單層膜或多層膜疊加

-     單一膜層

-     液態膜或空氣層

  不同條件下的測量,包括:

-     在平面或彎曲表面

-     光斑**可達20微米

-     桌面式、XY坐標自動化膜厚測量,或在線配置

以硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度膜厚儀—Filmetrics  F20為例

F20.jpg

型號參數

F20參數.jpg

 

 

Filmetrics公司:

    硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics利用反射干涉的原理進行無損測量,可測量薄膜厚度及光學常數。測量精度達到埃級的分辯率,測量迅速,操作簡單,界面友好,是目前市場上**性價比的薄膜厚度測量設備。設備光譜測量范圍從近紅外到紫外線,波長范圍從200nm到1700nm可選。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半導體膜層都可以測量。其可測量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之間,測量精度高達1 埃,測量穩定性高達 0.7 埃,測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選。可應用領域包括:生物醫學(Biomedical), 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 晶圓涂層、金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導體材料(Semiconductors)涂層測厚 , 太陽光伏(Solar photovoltaics),涂層測厚、 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。

 

應用:

通過Filmetrics膜厚測量儀新反射式光譜測量技術,多達3-4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用廣泛,例如:

膜層實例:

幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括:

SiO2(二氧化硅)           SiNx(氮化硅)                    DLC(類金剛石碳)

Photoresist(光刻膠)     Polyer Layers(高分子聚合物層)      Polymide(聚酰亞胺)

Polysilicon(多晶硅)      Amorphous Silicon(非晶硅)

 

基底實例:

對于厚度測量,大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。

包括:

Silicon(硅)         Glass(玻璃)               Aluminum(鋁)

Gas(砷化鎵)        Steel(鋼)                 Polycarbonate(聚碳酸脂)

Polymer Films(高分子聚合物膜)

產品應用,在可測樣品基底上有了飛躍:

●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量,即使是藥片,木材或紙張等粗糙的非透明基底。

●玻璃或塑料的板材、管道和容器。

●光學鏡頭和眼科鏡片。

 

優勢:

*     提供在線診斷

*     配送獨立的軟件包

*     精通的歷史功能即程序數據可存儲、**及策劃結果

*     免費軟件升級

產品工作原理:

截圖1575429352.png

 

               

 

極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優點,Filmetrics提供以下型號以供選擇:

一、單點測量系統(從 1nm 到 13mm 單層及多層厚度測量)

     30.jpg60.jpgf20_detail-large.jpgF40.pngf50_detail-large.jpgf54_angled-large.jpg

F20

*銷量好的薄膜測量系統,有各種不同附件和波長(由220nm紫外線區 至1700nm近紅外線區)覆蓋范圍,為任意攜帶型,可以實現反射率、膜厚、n、k值測量。

F3-sX

在沉積過程中可實時監測半導體與介電層薄膜厚度到3毫米, 例如硅片

F10-ARc

可測量鏡片和其他曲面的反射率,用于涂層厚度測量

F10-HC

測量硬涂層和防霧層厚度和折射率,聚碳酸酯硬涂層在汽車等行業應用普通

F3-CS

提供微小視野及微小樣品測量,USB連接電腦即可使用,攜帶方便

F10-AR

測量眼科鏡頭和其他彎曲表面的反射率。還可以提供測量硬涂層厚度和透射率的可選件

F10-RT

可同時測量反射率和透射率,也可選配測量膜層厚度和折射率。普遍應用于真空涂層領域

膜厚儀—FilmetricsF20實現反射率跟穿透率的同時測量,特殊光源設計特別適用于透明基底樣品的測量。

 

二、F40 系列- 基于微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量

膜厚儀—FilmetricsF40

可以固定到您的顯微鏡上來測量小至 1um 光斑點的厚度和折射率

這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。

 

三、F50/F60系列- 表面的自動測繪

 

F50

為我們的膜厚儀—FilmetricsF20系列產品增添自動測繪能力,以每秒鐘 2 個點的快速測繪厚度和折射率

這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。

F54

能以每秒測量兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度,樣品直徑可達450毫米

F60-t

滿足生產環境的臺式測繪系統,包括自動基準確定、凹槽定位、全封閉測量平臺以及其它裝置

 

四、F30 系列- 在線厚度監控儀器

       

F30

檢測金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、陰極濺鍍和其他沉積工藝中監控反射率、厚度和沉積率

這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭,同時測量三個樣品,具紫外線區或標準波長可供選擇。

F32

實時監控薄膜頂部和底部的反射率和沉積速率

 

 

 

 



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