產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 化工,生物產業,電子,航天,電氣 |
廠家正式*代理商:岱美有限公司
岱美有限公司與Filmetrics從03年開始的合作關系,單是國內16年間已賣出超過600臺不同型號儀器,在國內有多個服務處均有工程師,保證能為客戶提供及時的服務。
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Filmetrics硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量功能強大,測量厚度從1nm到10mm
薄膜特性表征工具/光學參數測量/反射率測量/厚度測量/透射率測量,應用于半導體材料厚度測量、非金屬材料厚度測量、光刻膠、光學掩膜、介電薄膜、晶圓表面涂層厚度測量、圓晶薄膜厚度測量、硅片表面涂層材料厚度測量,研究透光性材料的工具。
硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度測量儀 F20都能測量薄膜厚度、光學常數,還是想要知道材料的反射率和透過率。僅需花費幾分鐘完成安裝,通過USB連接電腦,設備就可以在數秒內得到測量結果。基于某模塊化設計的特點,硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics F20適用于各種應用:
測量厚度、折射率、反射率和穿透率:
- 單層膜或多層膜疊加
- 單一膜層
- 液態膜或空氣層
不同條件下的測量,包括:
- 在平面或彎曲表面
- 光斑**可達20微米
- 桌面式、XY坐標自動化膜厚測量,或在線配置
以硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度膜厚儀—Filmetrics F20為例
型號參數
Filmetrics公司:
硅片涂層厚度測量儀-晶圓厚度—Filmetrics利用反射干涉的原理進行無損測量,可測量薄膜厚度及光學常數。測量精度達到埃級的分辯率,測量迅速,操作簡單,界面友好,是目前市場上**性價比的薄膜厚度測量設備。設備光譜測量范圍從近紅外到紫外線,波長范圍從200nm到1700nm可選。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半導體膜層都可以測量。其可測量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之間,測量精度高達1 埃,測量穩定性高達 0.7 埃,測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選。可應用領域包括:生物醫學(Biomedical), 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 晶圓涂層、金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導體材料(Semiconductors)涂層測厚 , 太陽光伏(Solar photovoltaics),涂層測厚、 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。
應用:
通過Filmetrics膜厚測量儀新反射式光譜測量技術,多達3-4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用廣泛,例如:
膜層實例:
幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括:
SiO2(二氧化硅) SiNx(氮化硅) DLC(類金剛石碳)
Photoresist(光刻膠) Polyer Layers(高分子聚合物層) Polymide(聚酰亞胺)
Polysilicon(多晶硅) Amorphous Silicon(非晶硅)
基底實例:
對于厚度測量,大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。
包括:
Silicon(硅) Glass(玻璃) Aluminum(鋁)
Gas(砷化鎵) Steel(鋼) Polycarbonate(聚碳酸脂)
Polymer Films(高分子聚合物膜)
產品應用,在可測樣品基底上有了飛躍:
●幾乎所有材料表面上的鍍膜都可以測量,即使是藥片,木材或紙張等粗糙的非透明基底。
●玻璃或塑料的板材、管道和容器。
●光學鏡頭和眼科鏡片。
優勢:
* 提供在線診斷
* 配送獨立的軟件包
* 精通的歷史功能即程序數據可存儲、**及策劃結果
* 免費軟件升級
產品工作原理:
極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優點,Filmetrics提供以下型號以供選擇:
一、單點測量系統(從 1nm 到 13mm 單層及多層厚度測量)
F20
*銷量好的薄膜測量系統,有各種不同附件和波長(由220nm紫外線區 至1700nm近紅外線區)覆蓋范圍,為任意攜帶型,可以實現反射率、膜厚、n、k值測量。
F3-sX
在沉積過程中可實時監測半導體與介電層薄膜厚度到3毫米, 例如硅片
F10-ARc
可測量鏡片和其他曲面的反射率,用于涂層厚度測量
F10-HC
測量硬涂層和防霧層厚度和折射率,聚碳酸酯硬涂層在汽車等行業應用普通
F3-CS
提供微小視野及微小樣品測量,USB連接電腦即可使用,攜帶方便
F10-AR
測量眼科鏡頭和其他彎曲表面的反射率。還可以提供測量硬涂層厚度和透射率的可選件
F10-RT
可同時測量反射率和透射率,也可選配測量膜層厚度和折射率。普遍應用于真空涂層領域
在膜厚儀—FilmetricsF20實現反射率跟穿透率的同時測量,特殊光源設計特別適用于透明基底樣品的測量。
二、F40 系列- 基于微米(顯微)級別光斑尺寸厚度測量
膜厚儀—FilmetricsF40
可以固定到您的顯微鏡上來測量小至 1um 光斑點的厚度和折射率
這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。
三、F50/F60系列- 表面的自動測繪
F50
為我們的膜厚儀—FilmetricsF20系列產品增添自動測繪能力,以每秒鐘 2 個點的快速測繪厚度和折射率
這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
F54
能以每秒測量兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度,樣品直徑可達450毫米
F60-t
滿足生產環境的臺式測繪系統,包括自動基準確定、凹槽定位、全封閉測量平臺以及其它裝置
四、F30 系列- 在線厚度監控儀器
F30
檢測金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)、陰極濺鍍和其他沉積工藝中監控反射率、厚度和沉積率
這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭,同時測量三個樣品,具紫外線區或標準波長可供選擇。
F32
實時監控薄膜頂部和底部的反射率和沉積速率