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槽式濕法清洗設備

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大家好!無錫亞電智能裝備有限公司是半導體晶圓行業濕法制程服務商,專注于晶圓前道濕法刻蝕清洗技術,是*批推進半導體設備國產化的企業之一。公司核心產品為6吋、8吋、12吋濕法刻蝕清洗設備,包括槽式設備和單片設備,涵蓋多種前道濕法工藝,如:B Clean,Oxide Remove,Nitride Remove,PRStrip,Particle Remove,Solvent Clean,Wafer Reclaim,Metal Etch等。此外,為應對個性化的清洗需求,公司還研發了多種輔助清洗機臺,如:爐管清洗機,片盒清洗機,部件清洗機,本地化學品供液設備,濕法工作臺,烘箱等。目前已與無錫上華、寧波中芯、廣州粵芯、無錫華虹、重慶華潤微電子等客戶達成友好合作。

半導體產品、液晶、太陽能光伏、環保設備的研發、制造、維修

產地類別 國產 價格區間 面議
儀器種類 專用型 應用領域 電子/電池

一、 槽式濕法設備:

型號DF-1500BDF-2000BDF-3000B三大系列 ,Cassetteless type和Cassette type適用于6吋,8吋,12吋晶圓清洗,主要工藝包括B Clean,Oxide Remove, Nitride Remove, PR Strip, Particle Remove, Solvent Clean, Wafer Reclaim, Metal Etch等可應用于半導體、LED和太陽能電池等領域。

 

產品詳情:

1、槽式濕法設備Cassetteless-type:適用于90~130nm工藝制程,均勻性高,顆粒度低和顆粒等級優勢大,適用DMOS、50LOGIC、35MIX等產品。

- 滿足SEMI S2、SEMI S8和CE標準;

- 全自動倒片,兼容SMIF和FOUP;

- 支持EAP、FDC等功能;

- 多級Wafer保護措施;

- 支持Marangoni干燥;

- 支持多任務并行處理;

- 自動補、配液,可兼容多種濃度配比;

- 支持自動補液及配液;

- 配置煙感,溫感,光感及CO2 滅火裝置;

- BATH過溫保護,各MODULE 配置LEAK SENSOR;

- INTERLOCK全面豐富。

 

2、槽式濕法設備Cassette-type:適用于130nm及以上制程,適用產品如:IGBT、MEMS等,自動化程度高,價比高,穩定性強。

- 搭載*超聲波、兆生波清洗模塊,優化清洗工藝效果

- 支持EAP、FDC等功能

- 多級wafer保護措施

- 集成多種干燥技術,如:馬蘭格尼干燥、IPA 干燥

- 多尺寸襯底兼容清洗

- 支持多任務并行處理

- 全自動滅火系統,排風系統防爆處理,提高設備安全性

- 自動補、配液,可兼容多種濃度配比

大家好!無錫亞電智能裝備有限公司是半導體晶圓行業濕法制程服務商,專注于晶圓前道濕法刻蝕清洗技術,是*批推進半導體設備國產化的企業之一。公司核心產品為6吋8吋12吋濕法刻蝕清洗設備,包括槽式設備和單片設備,涵蓋多種前道濕法工藝,如B Clean,Oxide Remove,Nitride Remove,PRStrip,Particle Remove,Solvent Clean,Wafer Reclaim,Metal Etch等。此外,為應對個性化的清洗需求,公司還研發了多種輔助清洗機臺,如:爐管清洗機,片盒清洗機,部件清洗機本地化學品供液設備,濕法工作臺,烘箱等目前已與無錫上華、寧波中芯、廣州粵芯、無錫華虹、重慶華潤微電子等客戶達成友好合作



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