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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>實驗室用反應設備>其它合成反應>M-SPIN 200 勻膠旋涂儀M-SPIN

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M-SPIN 200 勻膠旋涂儀M-SPIN

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 M-SPIN 200
  • 產地 德國
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2024/5/17 10:31:13
  • 訪問次數 2118

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半導體化工領域專業實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創新精神的高科技公司,專業提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優質專業的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協助他們實現高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。



勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

產地類別 進口 應用領域 醫療衛生,化工,生物產業,能源,電子

勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。

勻膠旋涂儀M-SPIN 200產品參數:

可處理襯底尺寸:直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底;

旋轉速度:達9,000 rpm(以1 rpm步長可調);

固定晶圓片或襯底的裝置:真空托盤;

處理時間:(1-999秒,可在1秒內調整);

加速度:1-5,000rmp/sec;

其他參數:20個程序段,每個40步

設備尺寸:約 480mmx 360mm x 416mm(不帶蓋子)

控制器尺寸:約 145mmx 100mm x 120mm

 

產品選配件:

適用各種尺寸大小的托盤

分配臂

 

主營產品:

Laurell勻膠機     

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機       

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統,濕站系統     

Wabash/Carver自動壓片機



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