等離子清洗機的工藝氣體如何選擇？

等離子清洗機是將氣體電離產生等離子體對工件進行表面處理，無論是進行清洗還是表面活化，為達到的處理效果我們會選用不同的工藝氣體，那么等離子清洗機的常用工藝氣體有哪些，又該如何選擇呢？今天就為大家分享一下相關基礎知識，供大家分享。

等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮氣 (Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳 (Carbon, CO2)、氫氣（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbon tetrafluoride, CF4）等。

等離子清洗機的工藝氣體如何選擇？

1 氧氣

氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學的處理方式，電離后產生的離子體能夠對表面進行物理轟擊，形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發生化學反應形成活性基團的親水表面，達到表面活化的目的；被斷鍵后的有機污染物的元素會與高活性的氧離子發生化學反應，形成CO、CO2、H2O等分子結構脫離表面，達到表面清洗的目的。

氧氣主要應用于高分子材料表面活化及有機污染物去除，但不適用于易氧化的金屬表面。

真空等離子狀態下的氧等離子呈現淡藍色，部分放電條件下類似白色。放電環境光線比較亮，肉眼觀察時可能會出現看不到真空腔體內有放電的情況。