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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機>JCP200 單靶磁控濺射鍍膜機

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JCP200 單靶磁控濺射鍍膜機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京泰科諾科技有限公司
  • 品牌
  • 型號 JCP200
  • 產(chǎn)地 北京昌平
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2019/8/8 9:52:36
  • 訪問次數(shù) 244

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


  北京泰科諾科技有限公司自2003年成立以來,一直專注于真空薄膜新材料沉積設備、真空技術(shù)應用設備及其工藝。是一家集研發(fā)、設計、制造、銷售和服務于一體的*,在行業(yè)內(nèi)獨樹一幟。

  目前形成:一總部(北京昌平)二基地(懷來、任丘)的格局。

  公司擁有一支由多位教授、博士等*的技術(shù)研發(fā)、顧問團隊,具有較強的自主研發(fā)能力,確保了真空設備產(chǎn)品的高水平;同時建有研發(fā)鍍膜工藝、服務客戶的開發(fā)實驗室,始終保持技術(shù)優(yōu)勢。

  現(xiàn)有員工80人,其中博士以上學歷2名,碩士以上學歷4名,大專以上學歷45人。

  公司主要研發(fā)設計生產(chǎn)磁控濺射鍍膜機、蒸發(fā)鍍膜機多功能復合鍍膜機粉體鍍膜設備高真空應用爐CVD金剛石設備大型應用定制設備以及與之配套的工藝技術(shù)廣泛應用于各大高等院校科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研和批量制備。真空產(chǎn)品、技術(shù)及其服務已經(jīng)覆蓋全國的28個省市有超過1600臺設備在運行而且遠銷澳大利亞美國土耳其馬來西亞等國深受用戶的好評

蒸發(fā)鍍膜設備,磁控鍍膜設備,電子束鍍膜設備,熱絲CVD設備,高真空退火爐,裝飾鍍膜設備

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-30萬
應用領(lǐng)域 電子,冶金,航天,汽車,電氣

產(chǎn)品特點/用途

? 磁控濺射鍍膜設備可濺射/蒸發(fā)兩用;占地面積小,價格便宜,性能穩(wěn)定,使用維護成本低;

? 磁控濺射鍍膜設備可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等;

? 鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等;

? 單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

二、技術(shù)參數(shù)

型號JCP200
真空腔室結(jié)構(gòu)立式上開蓋結(jié)構(gòu),下置抽氣系統(tǒng),手動氣彈簧提開式
真空腔室尺寸Φ220×H300mm
加熱溫度室溫~500℃
濺射方式向上濺射
旋轉(zhuǎn)基片臺Φ100mm
膜厚不均勻性Φ50mm范圍內(nèi)≤±5.0%
濺射靶/蒸發(fā)電極Φ2英寸磁控靶1支,兼容DC/RF濺射
工藝氣體1-2路氣體流量控制
控制方式PLC觸摸屏控制
占地面積(主機)L600×W800×H1700mm
總功率≥6KW
 
型號

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