| 波長范圍 | 165nm~850nmnm | 光學分辨率 | ≤0.007nm@200nmnm |
|---|---|---|---|
| 價格區間 | 20萬-50萬 | 檢出限 | 亞ppb- ppb |
| 穩定性 | RSD≤1.0%（500LOD） | 儀器種類 | 全譜直讀 |
| 應用領域 | 環保,食品,化工,石油,地礦 | 重復性 | RSD≤0.5%（500LOD） |
Plasma 2000型全譜ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環境、食品、醫藥、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。
中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩健的檢測能力。
高效穩定的自激式固態射頻發生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的高精度運行及優異的長期穩定性。
高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現“全譜直讀”。
功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
Plasma 2000型全譜ICP光譜儀
1. 光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm
2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm(200nm處)
3. 光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶體管固態射頻發生器，小巧高效
5. 27.12MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限
6. 自動匹配調節
7. 全組裝式炬管，降低了維護成本
8. 計算機控制可變速12滾軸四通道蠕動泵，具有快速清洗功能
9. 實驗數據穩定性良好：重復性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10)；短時間穩定性 RSD≤0.5%（500 × LOD）、長時間穩定性 RSD≤1.0%（500 × LOD）
采購中心
化工儀器網