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日立分析儀器(上海)有限公司

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>光譜>ICP-AES/ICP-OES> 鋼研納克Plasma 3000ICP光譜儀

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鋼研納克Plasma 3000ICP光譜儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
  • 品牌 NCS/鋼研納克
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地 江蘇省蘇州市昆山市前進(jìn)東路158號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/10/24 17:14:24
  • 訪問次數(shù) 7489

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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司(GP代碼:300797)是中央企業(yè)中國(guó)鋼研科技集團(tuán)有限公司(鋼鐵研究總院)的二級(jí)單位,專業(yè)從事分析儀器裝備和分析檢測(cè)技術(shù)的研究、開發(fā)和應(yīng)用的高新技術(shù)創(chuàng)新型企業(yè)。目前公司提供的主要服務(wù)或產(chǎn)品包括分析檢測(cè)儀器、第三方檢測(cè)服務(wù)、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品、能力驗(yàn)證服務(wù)等檢測(cè)相關(guān)產(chǎn)品與延伸服務(wù)。

鋼研納克不僅是中國(guó)分析儀器設(shè)備制造的行業(yè),也是國(guó)內(nèi)元素檢測(cè)領(lǐng)域儀器種類齊全、綜合實(shí)力較強(qiáng)的儀器裝備和分析測(cè)試技術(shù)的研究機(jī)構(gòu)之一。依托國(guó)家鋼鐵材料測(cè)試中心和儀器產(chǎn)業(yè)基地,公司及子公司牽頭制修訂7項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)、參與制修訂標(biāo)準(zhǔn)20余項(xiàng)、制定170余項(xiàng)國(guó)家及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn);研制家級(jí)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)/標(biāo)準(zhǔn)樣品300多種。力爭(zhēng)成為測(cè)試儀器裝備領(lǐng)域有影響力的競(jìng)爭(zhēng)參與者、成為具有影響力的材料表征評(píng)價(jià)認(rèn)證的機(jī)構(gòu)和綜合解決方案的提供者。

鋼研納克分析儀器主要包括直讀光譜儀、碳硫分析儀、氧氮?dú)浞治鰞x、ICP 光譜儀、ICP-MS質(zhì)譜儀、土壤重金屬檢測(cè)儀、食品重金屬檢測(cè)儀、波長(zhǎng)色散× 射線熒光光譜儀、金屬原位分析儀、脈沖熔融-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀、試驗(yàn)機(jī)等技術(shù)水平先進(jìn)的檢測(cè)裝備,產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,檢測(cè)數(shù)據(jù)可靠牽頭制定了相關(guān)儀器和檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)有覆蓋全國(guó)的直屬營(yíng)銷和售后服務(wù)網(wǎng)點(diǎn),為客戶提供完善便捷的服務(wù)!


鋼研納克分析儀器發(fā)展歷程

1952年 鋼研納克起源于建國(guó)初期成立的鋼鐵研究總院

1956年 鋼鐵研究總院測(cè)試所儀器組成立,鋼研納克儀器產(chǎn)業(yè)起步

1977年 鋼研納克研發(fā)了中國(guó)*真空熔融氣體分析儀

1991年 中國(guó)*脈沖紅外定氧儀在這里誕生,儀器產(chǎn)業(yè)化發(fā)展正式起步

2001年 注冊(cè)成立“北京納克分析儀器有限公司”,儀器板塊進(jìn)入快速發(fā)展軌道

2003年 牽頭*“十五”國(guó)家科技攻關(guān)計(jì)劃重大項(xiàng)目《科學(xué)儀器研制與開發(fā)》

2006年 鋼研納克*推出高品質(zhì)國(guó)產(chǎn)火花直讀光譜儀,打破國(guó)外近半個(gè)世紀(jì)的壟斷

2009年 鋼研納克單掃描ICP光譜儀實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),ICP產(chǎn)品進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化發(fā)展階段

2011年 牽頭承擔(dān)國(guó)家重大科學(xué)儀器專項(xiàng)《ICP痕量分析儀器的研制》

2014年 直讀光譜儀(Labspark1000)榮獲首屆“國(guó)產(chǎn)好儀器”稱號(hào)

2014年 氧氮?dú)浞治鰞x(ONH-3000)、碳硫分析儀(CS-3000G)榮獲“國(guó)產(chǎn)好儀器”稱號(hào)

2015年 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(PlasmaMS 300)獲得國(guó)產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)

2015年 食品重金屬檢測(cè)儀(NX-100F)獲得國(guó)產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)

2017年 直讀光譜儀(SparkCCD 6000)獲得國(guó)產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)

2019年 ICP光譜儀(Plasma 3000)獲得國(guó)產(chǎn)儀器獎(jiǎng)BCEIA金獎(jiǎng)






直讀光譜儀、元素分析儀、氣體分析儀、等離子體質(zhì)譜儀、等離子體光譜儀

波長(zhǎng)范圍 165-950nmnm 光學(xué)分辨率 0.007nm@200nmnm
價(jià)格區(qū)間 20萬-50萬 檢出限 亞 ppb- ppb
穩(wěn)定性 RSD≤1.0%(500LOD) 儀器種類 全譜直讀
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,地礦 重復(fù)性 RSD≤0.5%(500LOD)

   全譜ICP光譜儀儀器特點(diǎn):

   光學(xué)系統(tǒng)

   徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì),適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量。中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),使用CaF2棱鏡,提高光路傳輸效率。優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì),采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。光室氣體氛圍保持技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機(jī)即可測(cè)量。包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定無漂移。

   光源

   固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩(wěn)定,體積小巧,效率高,匹配速度快,能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試,均能獲得優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。垂直炬管的設(shè)計(jì),具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。冷錐消除尾焰技術(shù),極大地降低自吸效應(yīng)和電離干擾,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更低的背景,保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。具有綠色節(jié)能待機(jī)模式,待機(jī)時(shí)降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運(yùn)行,節(jié)約使用成本。

   簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì),快速定位,精確的位置重現(xiàn)。實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線,保障通訊高效可靠。

   進(jìn)樣系統(tǒng)

   簡(jiǎn)潔的炬管安裝設(shè)計(jì),自動(dòng)定位炬管位置,精確的位置重現(xiàn)。儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng),可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含HF等樣品的測(cè)試。

   使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護(hù),轉(zhuǎn)換快速,使用成本低。使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測(cè)試性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。多通道12滾輪蠕動(dòng)泵,提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。

   檢測(cè)器

   大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng),高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動(dòng)態(tài)范圍和極快的信號(hào)處理速度。一次曝光,完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取,從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。同類產(chǎn)品中大靶面尺寸,像素,單像素面積24μmX24μm,三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫度低,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。

   軟件系統(tǒng)

   人性化的界面設(shè)計(jì),流暢易懂,簡(jiǎn)便易用,針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng),無須復(fù)雜的方法開發(fā),即可快速開展分析操作。

   豐富的譜線庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶合理選擇分析譜線。輕松的觀測(cè)方式設(shè)置,直觀的測(cè)試結(jié)果顯示。

   安全防護(hù)

   電磁屏蔽,減少電磁輻射連鎖門保護(hù),避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險(xiǎn)防紫外觀測(cè)窗

   全譜ICP光譜儀技術(shù)參數(shù):

   分析性能

   檢出限:亞ppb-ppb短期穩(wěn)定性:RSD≤0.5%(500LOD)長(zhǎng)期穩(wěn)定性:RSD≤1.0%(500LOD)

   光源

   自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù)1瓦可調(diào)震蕩頻率:27.12MHz

   輸出功率:700W-1600W功率穩(wěn)定性:<0.1%

   儀器規(guī)格

   尺寸:寬x深x高(106cmx67cmx75cm)重量:約180kg

   光學(xué)系統(tǒng)

   分析譜線范圍:165-950nm

   分辨率:0.007nm@200nm光室恒溫:38℃±0.1℃

   CCD像素:1024x1024

   單像素面積:24μmx24μm

   工作環(huán)境

   實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對(duì)濕度20%~80%氬氣純度:不小于99.95%

   排風(fēng):不小于400立方米/小時(shí)

   電源:200V~240VAC單相;50Hz~60Hz;4kVA

 

 

 

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