產品名稱：SVAC-FilmLab-C 束線多腔鍍膜設備

真空系統配置：分子泵、機械泵、插板閥。

SVAC-FilmLab-C 束線多腔鍍膜設備大樣品尺寸：：6-8英寸硅片、一次放置10片。

靶：8寸以下圓形平面。

機械手自動上下基片。

真空退火，高溫度1600℃。

全自動化操作（PLC）。

真空腔室尺寸：定制。

極限真空：小于5×10^-5Pa。

杭州賽威斯真空技術有限公司是一家致力于服務有機光電領域，集研發、設計、生產、服務為一體的專業設備制造廠商，竭誠為廣大用戶提供有機光電領域小分子提純設備以及驗證設備的全面技術解決方案。

       賽威斯真空成立于2010年9月，注冊在杭州濱江高新開發區，目前主要產品有：蒸發源、小分子純化提純設備、OLED器件制備設備、磁控濺射鍍膜機、電子束蒸發鍍膜機、有機物蒸發鍍膜、電阻式蒸發系統、脈沖激光沉積系統（PLD）、高真空分子泵機組、低溫系統以及相關非標系統定制。

       公司已經成功服務于諸多國內科研院所、高校，工業、半導體等企業。

       賽威斯真空秉承“真誠服務”的理念，與廣大客戶保持著良好的合作關系。