連續式磁控濺射鍍膜設備主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍制高質量、高性能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應膜、復合膜、透明導電膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜層。本公司可按用戶要求提供設計，提供全套鍍膜設備，負責工藝，按交“鑰匙”工程服務。

設備特點：
1.設備采用真空磁控濺射技術，孿生陰極，中頻濺射技術，并配以*的控制系統 。
2.生產過程全部自動，連續進行。被鍍工件加熱溫度高可達350℃，溫度分區控制可調。
3.真空室材料采用SUS304，真空室內壁進行拋光處理，外壁采用拋光后噴漆處理。
4.真空室之間采用獨立門閥隔開，我們設計的是插板閥，可以有效隔斷，穩定工藝氣體。傳動采用磁導向，保障傳動的穩定性。整條生產線的各段速度采用變頻調速電機驅動，運行速度可調節。
5.電氣控制系統：觸摸屏與PLC自動控制，人機對話方式來實現系統的數據顯示、操作與控制。

1．極限真空：7x10-4Pa.                    
2．生產周期40~120秒/架
3．基本架尺寸：859*1500mm (可以根據要求定做) 
4．膜層均勻性：±2%
5．膜層穩定性：達到標準

玻璃、導電膜
連續式磁控濺射鍍膜設備廣泛地用于液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導電膜玻璃、光電子和各種光學領域
適用于柔性電致變色器件、柔性薄膜太陽能電池、柔性EL發光器件的制備和生產