掃描電鏡（SEM）技術(shù)參數(shù)：

1、分辨率1.0 nmat 15 kV；1.7 nm at 1 kV；4.0 nmat 0.1 kV

2、加速電壓0.1-30kV
3、放大倍數(shù)12-900000
4、探測(cè)電流4pA-20nA
5、電子槍：熱場(chǎng)發(fā)射

掃描電鏡（SEM）應(yīng)用范圍：

　　用于觀察樣品的表面形態(tài)、斷口形貌、磨損表面形貌、納米結(jié)構(gòu)材料形態(tài)、生物樣品形貌等；結(jié)構(gòu)分析、成分分析。廣泛用于材料學(xué)、機(jī)械學(xué)、微電子學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。

公司合作的大型儀器設(shè)備主要有頂端的透射電鏡（包括球差電鏡、FEI廠家的Tecnai G²F20、Tecnai G² F30），美國和德國的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡、美國賽默飛的光電子能譜儀（XPS  ESCALAB250Xi），法國的拉曼（LabRAM HR Evolution），麥克儀器公司的物理吸附吸附儀、化學(xué)吸附儀，粉末X射線衍射儀（D-MAX 2500/PC）等二十余臺(tái)大型設(shè)備，服務(wù)對(duì)象主要有青島、武漢、西安、上海、北京、哈爾濱等各大城市的高校及研究所，面向全國各地。