| 光譜范圍 | 5-8000cm-1 | 光譜分辨率 | 0.25cm-1 |
|---|---|---|---|
| 光譜重復性 | 0.1cm-1 | 價格區間 | 面議 |
| 空間分辨率 | 0.25微米 | 儀器種類 | 顯微共焦拉曼光譜 |
| 最低波數 | 5cm-1 |
RAMOS E/M系列激光共聚焦顯微拉曼光譜儀性能強大，產品線豐富，不同的型號對應不同的分辨率，所有產品均可實現2D和3D快速拉曼成像，客戶可根據自己的實際需求選擇對應產品。
RAMOS E200內置光譜儀，結構緊湊，便于移動。RAMOS M350, M520, M750通過光纖與光譜儀相連，可配備兩個探測器，RAMOS M750光譜儀焦長高達750mm，*提高了系統的分辨率，系統可配備中階梯光柵，光譜分辨率高達0.25 cm -1。
系統特點
功能強大，可實現多種測量方式
拉曼光譜與拉曼成像
熒光光譜與熒光成像
透射光與反射光（明場與暗場）成像
激光共聚焦顯微鏡
偏光顯微鏡與相差顯微鏡
2D和3D掃描成像，成像范圍大，速度快，精度高
成像精度高，掃描步進20nm
成像速度快，3μs每像素，30萬像素每秒
成像范圍大，振鏡掃描范圍640μm x 640μm，結合電動位移臺可實現更大范圍成像
多通道測量模式，可同時測量拉曼，熒光，激光共聚焦成像
雙通道同步測量，單次掃描可同時得到激光共聚焦成像圖譜與拉曼散射光譜成像圖譜，
低噪聲，高靈敏度，光譜分辨率可達0.25cm-1
超高靈敏度和信噪比，如下圖所示，激光功率6mW的情況下，積分時間100秒內即可獲取硅的四階峰，大大優于同類設備。
超高光譜分辨率，低至0.25cm-1，精度高，光譜測量范圍廣，
搭配高靈敏度背照射CCD，量子效率高達95%
拉曼測量范圍寬，可選低波數拉曼濾波器，測量范圍5 cm-1到8000cm-1
可配備低波數陷波濾波器（Notch filter）拉曼濾波器，截止頻率5 cm-1，同時測量斯托克斯拉曼與反斯托克斯拉曼。
系統采用針孔（Pinhole）共聚焦，去除非焦面雜散光影響，提高3D成像質量。
多功能，易于擴展，偏振拉曼，熒光壽命成像FLIM，AFM聯用等
可選配件
自動位移平臺，配合振鏡實現超大范圍掃描
高溫熱態和低溫恒溫器，真空或高壓腔。
光纖探頭進行原位拉曼測量
詳細參數
| RAMOS E200 | RAMOS M350 | RAMOS M520 | RAMOS M750 |
成像方式 | 3D (XYZ) 共聚焦激光成像與拉曼成像 | |||
掃描方式 | XY方向振鏡掃描/自動位移平臺(可選) | |||
Z方向壓電位移 | ||||
掃描速度 | 3秒每百萬像素(3 μs/像素) | |||
空間分辨率 | XY: 440 nm, Z: 620 nm | |||
拉曼測量范圍 | 50–8500cm-1 | 50 – 9700 cm-1 | ||
激光器 | 內置473 nm 或者 532 nm 激光器, | |||
可選其他波長激光器，455 nm, 633 nm, 785 nm等 | ||||
激光功率控制 | 從0.1% to *連續自動調節 | |||
拉曼濾波器 | 50 cm-1 | |||
光譜儀 | 內置 | 外置 | ||
焦長 | 200 mm | 350 mm | 520 mm | 750 mm |
光譜分辨率 | 1 cm-1 | 1.60 cm-1 | 0.25 cm -1 | 0.44 cm -1 |
探測器 | 2048х122，半導體制冷 | 2048х122，雙級制冷，量子效率95% | ||
應用示例：
石墨烯拉曼光譜與拉曼成像
石墨烯AFM與拉曼成像
樣品硅的拉曼成像
多晶硅的3D拉曼成像
鋰電池負極材料的拉曼成像
碳納米管的拉曼成像
藥片的拉曼成像
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