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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>勻膠機> VTC-200PV真空旋轉涂膜機

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VTC-200PV真空旋轉涂膜機

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  沈陽科晶立足國內市場實際情況,以提供Z為實用的產品為己任。產品的質量、精度在向國外企業看齊的基礎上,產品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。性價比不僅吸引了眾多國內客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

  沈陽科晶為了更好地服務客戶,專門設立了開放式專業實驗室,配備了優秀的專業技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產品體驗環境,而且還可得到專業人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為市場上專業的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。

 

我們擁有同類型中優質性價比的產品!                 

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歡迎來到沈陽科晶,我們是國內實驗室樣品制備設備領域的專家!

 

 

 

 

 

 

 

 

切割機,金剛石線切割機,研磨拋光機,提拉涂膜機,旋轉涂膜機,真空鍍膜機,管式爐,箱式爐,電池實驗研究設備,清洗機

產品簡介:VTC-200PV真空旋轉涂膜機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。本機可以對涂膜機腔室進行抽真空,使樣品在*真空的狀態下進行涂膜,適用于在空氣中易氧化變質的薄膜材料的使用。工作時利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上,該設備可儲存12組程序,每組程序包含6個運行階段。不同運行階段設備轉數不同,使設備緩慢提升速度限速度,有利于薄膜材料在樣品表面均勻成膜,且不會過多浪費,節約材料。具有操作簡單、清理方便,體積小巧等優點,主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。

產品名稱

VTC-200PV真空旋轉涂膜機

產品型號

VTC-200PV

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備配有進出水口

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:不需要

4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1、設有12組程序,每組包含6個運行階段,每段增減速率設置范圍:100—2000rpm/s,每段時間范圍:0—60s。

2、樣品可采用真空吸附的方式進行固定,也可采用粘結或夾持的方式進行固定,操作簡便。

3、吸盤真空度可以達到-0.08MPa。

4、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置,以減少偏心而造成的震動或飛片。

5、根據樣件規格可以配用不同的吸盤,且更換方便簡單。

6、電機采用直流無刷電機,無級調速,可靠性高,適應性強,維修與保養簡單,噪音低,震動小,運轉平穩,啟動快速穩定,加速后運行平穩,可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。

7、當用真空吸附方式固定樣品時采用無油雙杠真空泵,體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。

8、可在惰性氣體氣氛下進行涂層

9、可在真空狀態下進行涂層,此時需要用粘接基片或夾持基片的方式對被涂基片進行固定。

10、腔體通體采用聚丙烯材質,使用壽命更長,提高耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能。

11、全英文操作系統。

12、具有開蓋保護功能,當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止.

13、控制器采用控制箱,液晶顯示數值,更直觀可靠。

技術參數

1、功率:350W/24V

2、轉速:500rpm-6000rpm

3、時間:1s-60s

4、腔體真空度可達1Torr(VRD-8機械泵連續工作)

產品規格

尺寸:?250mm×290mm;重量:25kg

標準配件

1

真空吸盤

1個

2

夾持吸盤

1個

3

無油真空泵

1臺

可選配件

VRD-16機械泵

移液器

其它尺寸的真空吸盤



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