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離子束拋光系統(tǒng)

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  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/2/27 11:19:10
  • 訪問次數(shù) 1107
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離子束拋光系統(tǒng)

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國(guó)外高科技儀器廠家在中國(guó)地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠(chéng)信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務(wù)和*的整體解決方案。在科技日新月異、國(guó)力飛速發(fā)展的中國(guó),納米科學(xué)研究、薄膜材料(包括半導(dǎo)體)生長(zhǎng)和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機(jī)高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達(dá)國(guó)家*接軌的儀器設(shè)備平臺(tái)來實(shí)現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長(zhǎng)在這個(gè)火熱的年代,我們?cè)敢饣癁橐蛔鶚蛄海娮C中國(guó)科技水平的提升,與中國(guó)科技共同飛速成長(zhǎng)。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國(guó)香港,在中國(guó)上海設(shè)立了分公司,在國(guó)內(nèi)多個(gè)城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務(wù)。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉(cāng)庫(kù)及維修中心,同時(shí)提供在大陸的各項(xiàng)技術(shù)服務(wù)和后期的維修保障服務(wù),我們擁有專業(yè)的應(yīng)用維修人員,并且都曾到國(guó)外廠家進(jìn)行了專門的培訓(xùn)。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務(wù)更加快捷和方便。我們承諾24小時(shí)電話響應(yīng),72小時(shí)內(nèi)趕到現(xiàn)場(chǎng)維修。以利于更好、更快的為中國(guó)大陸服務(wù)!
      因?yàn)樾湃?所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國(guó)內(nèi)眾多科研院所和大學(xué)根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導(dǎo)體所,中科院大連化學(xué)物理研究所,國(guó)家納米中心,上海納米中心,北京大學(xué),清華大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),南京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),上海交通大學(xué),華東理工大學(xué),浙江大學(xué),中山大學(xué),西安交通大學(xué),四川大學(xué),中國(guó)工程物理研究院,香港大學(xué),香港城市大學(xué),香港中文大學(xué),香港科技大學(xué)等。



光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)

離子束拋光系統(tǒng)

儀器簡(jiǎn)介:

ATC 1800-IM 型

The system shown above is equipped with a gridded ion source positioned for uniform milling of a 200mm diameter substrate. System features a 1200 l/s turbopump, load-lock with 6-position cassette, and substrate holder with backside gas cooling and rotation. Etch rate is 320 A/min of SiO2 with +/- 2% uniformity.

 離子束拋光系統(tǒng)

ATC ORION-IM 型

The system shown above is equipped with an ICP RF plasma source with ion energies up to 300 eV for low energy milling of substrates up to 150mm in diameter. System also includes a 700 l/s turbopump and substrate holder with simultaneous water cooling, rotation, and 0-80 degree tilting capability.

應(yīng)用:自旋閥 /AMR/ GMR
磁隧道結(jié)
介電界面涂層
Rugate Filters
High-k 材料
形狀記憶合金
光電材料
超導(dǎo)材料
單一結(jié)晶GaN

主要特點(diǎn):
高效高產(chǎn)量,低能量等離子體源
6 x 4" 偏置靶材旋轉(zhuǎn)架
獨(dú)立偏置靶材,專業(yè)用于控制沉積合金復(fù)合材料
100mm 直徑樣品表面處理
<3% 非均勻性(75 mm面積)
襯底樣品表面等離子體清洗,刻蝕氧化,氮化
水冷,旋轉(zhuǎn),磁化,擋板樣品臺(tái),加熱至 600 C
單片樣品傳輸臺(tái)(load lock stage)



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