上海三研SYDC-H系列控溫型浸漬提拉鍍膜機

SYDC-100H

一.產品應用
    本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。
二.產品簡介
    浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩定、工作時液面無振動，可*提高實驗精度與實驗效率。
    適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
三.產品特點
    1.精密的垂直提拉裝置。zui近升級為瑞士*的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有精密度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。
    2.采用伺服電機驅動。配合瑞士*的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及穩定性，已達到*消除提拉震動的效果，確保涂膜均勻。
    3.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，精密控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。
    4.鍍膜系統采用7英寸液晶觸摸屏使控制更方便；運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；
    5.整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行。恒溫場溫度控制系統采用LCD液晶顯示，可精密控溫，溫度均勻性好。可設置多段程序控溫。
    6.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降的超限運行。
    7.高、低速均運行平穩，運行連續、平滑。鍍膜時液面無振動，使成膜更均勻； 
    8.特殊設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片； 
四.技術參數
    1.提拉速度范圍：1～6000 μm/s，zui小分辨率1μm/s；
    2.適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
    3.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
    4.循環鍍膜次數：1～1000次，zui少1次；
    5.每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
    6.恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
    7.溫度波動度：≤±1℃；
    8.恒溫場內尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）；
    9.電源：220V/50Hz 

SYDC-200H

一.產品應用
    本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。
二.產品簡介
    浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel 法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調、精密控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩定、工作時液面無振動，可*提高實驗精度與實驗效率。
    適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
三.產品特點
    1.精密的垂直提拉裝置。zui近升級為德國*的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有精密度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。
    2.采用伺服電機驅動。配合德國*的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及穩定性； 伺服電機運轉時的高精度、平滑性、無抖動等特點是步進電機不可比擬的。
    3.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，精密控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。
    4.鍍膜系統采用7 英寸液晶觸摸屏使控制更方便；運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；

    5.整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行。恒溫場溫度控制系統采用LCD 液晶顯示，可精密控溫，溫度均勻性好。可設置多段程序控溫。

    6.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降的超限運行。
    7.高、低速均運行平穩，運行連續、平滑。鍍膜時液面無振動，使成膜更均勻；
    8.特殊設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片；
四.技術參數
    1.提拉速度范圍：1～8000 μm/s，zui小分辨率1μm/s；
    2.適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；
    3.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
    4.鍍膜次數：1～1000 次，zui少1 次；
    5.每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
    6.恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
    7.溫度波動度：≤±0.2℃；
    8.恒溫場內尺寸：450×550×550 mm（W×D×H）；
    9.電源：220V/50Hz

上海三研SYDC-H系列控溫型浸漬提拉鍍膜機