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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>去膠機>ME1 等離子體去膠機

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ME1 等離子體去膠機

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   北京同德創業科技有限公司作為國內的儀器儀表銷售平臺。其發展業務主要涉及:實驗室檢測、水質檢測、環保檢測、醫療檢測、工業檢測、電力通訊檢測、無損檢測、氣體檢測等。公司始終堅持發揚"誠信、創新、溝通"為企業宗旨,以"技術、"為立業之本的團體精神,并形成一套完整的設計、安裝、調試、培訓、維護一站式體系。

   公司憑借優勢的網絡化的采購平臺,打造高品質供應鏈體系,完善的技術支持,為客戶提供強有力的供貨保障。








械設備加工,銷售;儀器儀表,金屬材料,醫療器械,建筑材料,化工產品

等離子體去膠機型號:ME1

等離子體去膠機

是在(RIE)反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來,為小型等離子去膠機,具有體積小,性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大**院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝,同時有RIE刻蝕功能,可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
  整機基本配置和性能:
    1.激勵電源:13.56MHz 500W;帶匹配器和功率計各1臺(動匹配可選),帶定時器1臺。 
    2.真空系統:8升/秒機械泵1臺。帶真空計。 
    3.載片臺尺寸:Ф220mm ,一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
    4.氣路系統:2路進氣;2個質量流量計,2路顯示。 
    5.手動控制(可以選擇配置工藝過程動控制)。

    6.均勻性:±5% (4英寸內)

 是在(RIE)反應離子刻蝕機的基礎上簡化改進而來,為小型等離子去膠機,具有體積小,性能優良、用途多、工藝速率高、均勻性及重復性好、價格低、使用方便等特點。是各電子器件企業及科研單位、大**院校的機型。適合于微電子制作工藝中光刻膠的去膠工藝,同時有RIE刻蝕功能,可以刻蝕Si、SiO2、SiN。已出口國外。
  整機基本配置和性能:
    1.激勵電源:13.56MHz 500W;帶匹配器和功率計各1臺(動匹配可選),帶定時器1臺。 
    2.真空系統:8升/秒機械泵1臺。帶真空計。 
    3.載片臺尺寸:Ф220mm ,一次可放3片4英寸片或者4片3英寸片。
    4.氣路系統:2路進氣;2個質量流量計,2路顯示。 
    5.手動控制(可以選擇配置工藝過程動控制)。
    6.均勻性:±5% (4英寸內)





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