一、PECVD原理：
  等離子化學氣象沉積（chemical vapor deposition,簡稱CVD）是在一定的溫度條件下，混合氣體之間與基材表面相互作用，并且進一步在基材表面形成金屬膜或者化合物薄膜，使材料表面改性，以達到耐磨，抗氧化、抗腐蝕性等性能，在電子，光學，摩擦力學，機械應用方面有很多應用。
 等離子化學氣象沉積（plasma enhanced chemical vapor deposition,簡稱PECVD）也叫做等離子體輔助化學氣象沉積（簡稱PACVD）則是依靠等離子體中得電子的動能去激活氣象得化學反應，由于等離子體是離子、電子、中性原子和分子的集合體，因此大量的能量存在于等離子的內能之中。PECVD是冷等離子體，是通過低壓氣體放電而形成的，一般是在幾帕到幾百帕的低氣壓下，通過射頻、中頻等放電所產生。
 
二、PECVD的特點：
  等離子化學氣象沉積 與常規的熱CVD比較，PECVD具有更多的優點
     1、沉積溫度低：熱CVD的溫度一般高于600度，其應用范圍非常有限，大部分只能用于實驗功能，PECVD的沉積溫度可以降到200度以內，這是由于其內能，也就是電子所具備的高能量所提供的。此優點決定了其可以廣泛的應用于各種金屬、半導體、電子等領域。
     2、沉積速率及均勻性得到提高：PECVD在輝光放電中所用的壓力比較低，反應物中分子、原子等離子粒團與電子之間的碰撞、散射、電離等作用增強，膜層厚度的均勻性得到改善，針孔減少，組織致密，內應力少，不易產生微裂紋。
     3、可以獲得性能*的膜層：PECVD的輝光放電處于非平衡狀態，及能量耗散狀態，其沉積產物呈多樣性，可以獲得熱分解所不能得到的物質，zui典型的，熱分解甲烷得到石墨薄膜，PECVD則可以得到金剛石薄膜。
 
 三、公司設備特點
1、設備整體尺寸：550mm*550mm*1200mm（寬*深*高）
2、真空室尺寸：直徑70*高度110mm
3、平行板電極尺寸：直徑60mm
4、電極調節：可調節
5、真空系統：機械泵
6、極限真空度：1*10-3mabr。
7、濺射電源：射頻電源5KW
8、工藝匹配：手動匹配
9、氣體控制：質量流量控制器 2路
10、真空檢測：電阻真空計
11、加熱系統：熱電阻加熱 1.2KW
12、控制方式：手動控制系統
 
 
四、PECVD設備的應用
1、沉積DLC膜層：用與機械、電子、醫療等領域
2、沉積氮化硅：半導體行業、微電子行業
3、沉積TIN膜層：以及TIC等硬質膜層，比離子鍍更光亮，更美觀
4、納米炭管：CNTs是PECVD技術的一個新的應用
5、太陽能薄膜電池：非晶硅太陽能電池的制備