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wayes-zm 桌面型磁控濺射鍍膜機(jī)
參考價(jià) | ¥ 198000 |
訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
- 品牌
- 型號(hào) wayes-zm
- 產(chǎn)地 北京大興舊橋路
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2019/7/29 16:04:35
- 訪問次數(shù) 500
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,印刷包裝,航天,電氣 |
桌面型磁控濺射鍍膜機(jī)設(shè)備用途:
桌面型磁控濺射鍍膜機(jī)用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(3個(gè)靶)、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。
技術(shù)指標(biāo):
1. 極限真空度6.7×10-5Pa; 分子泵滿速1小時(shí)后真空度達(dá)到4×10-4Pa;
2. 超高真空磁控靶:有效尺寸3英寸,數(shù)量:3支,永磁靶(自帶側(cè)開擋板),水冷;
3. 靶基距120-200mm可調(diào),用光軸加直線軸承導(dǎo)向,可手動(dòng)連續(xù)調(diào)節(jié),有刻度指示;三靶共濺射,靶可擺角度,角度為0~45℃;
4. 樣品加熱:采用碘鎢燈加熱方式對(duì)樣品進(jìn)行加熱,樣品zui高可加熱400℃;
5. 磁控濺射樣品有效尺寸:Φ60mm,一次只鍍1片;鍍膜時(shí)樣品架實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn),自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為0~50轉(zhuǎn)/分;樣品加負(fù)偏壓0-200V可調(diào);
6. 氣體控制:氣體流量通過兩路質(zhì)量流量控制器控制,流量范圍為:0~50 sccm;
7. 系統(tǒng)帶有手動(dòng)控制功能,主要實(shí)現(xiàn)樣品的加熱控制;樣品的旋轉(zhuǎn)控制;磁控靶檔板的控制;真空度的采集。