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wayes-zm 桌面型磁控濺射鍍膜機(jī)

參考價(jià) 198000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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公司名稱(現(xiàn)用名):北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司
覆蓋區(qū)域:北京、天津、河北

 

       北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司,原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司,創(chuàng)立于2013年,位于中國(guó)·首都北京密云經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),主體經(jīng)營(yíng)分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制、淺藍(lán)納米科技三個(gè)部分,是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計(jì)、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師,具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn),同時(shí)還與北京工業(yè)大學(xué)聯(lián)合研發(fā)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),與北京交通大學(xué)聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng),滿足高校、研究所的教學(xué)、科研使用,同時(shí)減少相關(guān)進(jìn)口設(shè)備的*,并力爭(zhēng)創(chuàng)造外匯,打出中國(guó)創(chuàng)造的品牌!  


       我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、部分*單位和電力試驗(yàn)所、各級(jí)的材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域*的實(shí)驗(yàn)室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!

 

       您的滿意微笑是我們一直努力追求的經(jīng)營(yíng)目標(biāo)!
       技術(shù)創(chuàng)新、業(yè)務(wù)專業(yè)、服務(wù)誠(chéng)信是我們一直遵循的經(jīng)營(yíng)理念!

 

       我們熱誠(chéng)歡迎國(guó)內(nèi)外*的儀器制造商及科學(xué)工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)和原子層沉積系統(tǒng)供應(yīng)商。

ALD設(shè)備,PECVD設(shè)備

產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子,印刷包裝,航天,電氣

桌面型磁控濺射鍍膜機(jī)設(shè)備用途:
桌面型磁控濺射鍍膜機(jī)用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(3個(gè)靶)、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。
技術(shù)指標(biāo):
1. 極限真空度6.7×10-5Pa; 分子泵滿速1小時(shí)后真空度達(dá)到4×10-4Pa;
2. 超高真空磁控靶:有效尺寸3英寸,數(shù)量:3支,永磁靶(自帶側(cè)開擋板),水冷;
3. 靶基距120-200mm可調(diào),用光軸加直線軸承導(dǎo)向,可手動(dòng)連續(xù)調(diào)節(jié),有刻度指示;三靶共濺射,靶可擺角度,角度為0~45℃;
4. 樣品加熱:采用碘鎢燈加熱方式對(duì)樣品進(jìn)行加熱,樣品zui高可加熱400℃;
5. 磁控濺射樣品有效尺寸:Φ60mm,一次只鍍1片;鍍膜時(shí)樣品架實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn),自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為0~50轉(zhuǎn)/分;樣品加負(fù)偏壓0-200V可調(diào);
6. 氣體控制:氣體流量通過兩路質(zhì)量流量控制器控制,流量范圍為:0~50 sccm;
7. 系統(tǒng)帶有手動(dòng)控制功能,主要實(shí)現(xiàn)樣品的加熱控制;樣品的旋轉(zhuǎn)控制;磁控靶檔板的控制;真空度的采集。



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