維意真空等離子體增強化學氣相沉積鍍膜設備

PE-CVD結構特點介紹：
1、PECVD系列真空管式高溫燒結爐如圖所示,集控制系統與爐膛為一體；
2、爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用進口高溫合金電阻絲為加熱元件；
3、高純石英管橫穿于爐體中間作為的爐膛，爐管兩端用不銹鋼法蘭密封，工件式樣在管中加熱，加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性；
4、測溫采用性能穩定，長壽命的“K”型熱電偶，以提高控溫的精準性；
5、它是專為高等院校﹑科研院所及工礦企業對金屬，非金屬及其它化和物材料在氣氛或真空狀態下進行燒結﹑融化﹑分析而研制的設備；
6、MPECVD系列真空管式爐能夠快速開啟，快速升降溫，方便客戶對特殊材料的裝載，燒制和觀察；
7、爐體的控制面板配有觸摸屏，控制電源開關，配有電源和保險指示燈，以便隨時觀察本系統的工作狀態。

維意真空等離子體增強化學氣相沉積鍍膜設備
*** 基本功能介紹：
1、輝光放電：在系統低于100Pa啟動射頻電源可以實現輝光放電；
2、加熱：系統可以設置30段溫控程序，彩屏系統預存15條燒培曲線，針對不同的樣品，設置不同的預設曲線，避免重復設置；
 3、自動清洗功能：樣品放入線圈的區域，配置好參數（PECVD功能配置），系統會自動抽真空，并
通入設置的氣體，自動啟動輝光放點；
4、自動cvd功能：樣品放入線圈的區域，配置好參數（PECVD功能配置），系統會自動抽真空，并通入設置的氣體，自動啟動輝光放點；
5、智能能模式：實現自動清洗和cvd功能，樣品不需移出，清洗cvd功能一鍵完成，并能實現多次的循環操作；
6、通氣時間可以設定：通過界面設置通氣時間，時間到后，系統自動停止流量計，達到節能環保的目的；
7、恒定真空控制：系統設置一個真空度的數值（見參數“真空設定值”），配合手動閥和真空泵，系統能實現真空的恒定；
8、系統微正壓控制：系統設置一個正壓值（見參數“真空設定值”），并配置好相應的氣路，配合手動放氣閥，可以實現系統微正壓的恒定；
9、系統正壓保護功能：當因為誤操作或者其他原因，系統壓力超過保護值時（見參數“放氣閥開啟壓力”），系統會自動關閉進氣，保護設備；
10、加熱爐膛移動的速度可以調節。

 該系列PECVD系統具有固態等離子源、分開式反應氣體進氣系統，動態襯底溫控，全面控制真空系統，采用集中現場控制總線技術的“值守精靈”控制軟件，以及友好用戶操作界面來操作。適用于室溫至1400℃條件下進行的SiO2、SiNx,、?SiONx?a-Si薄膜的沉積，同時可實現TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態或氣態源沉積其它材料，尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。?
*** 主要特點：
??清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染；
??上開啟結構，式樣觀察方便；
??觸屏人機對話整體性操作，安全可靠；;
??產品采用全自動控制方式，觸摸屏，數字化顯示。
??真空系統、工作壓強、電源系統及自動匹配、工藝氣體流量、加熱系統、運動系統、工藝過程、系統監控及數據采集等