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化工儀器網>產品展廳>配件耗材>光譜儀配件/附件>霧化室>HDW-500 超聲波液體霧化設備

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HDW-500 超聲波液體霧化設備

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 超聲波與傳統的依靠壓力和高速運動將液體粉碎成小顆粒的噴霧頭不同,超聲波噴霧頭是利用較低的超聲波振動能量來進行液體霧化的。液體可通過自身重力或低壓液泵傳送到噴霧頭并實現連續或間斷性霧化。在不超出限度的情況下,液體霧化量僅由液體的輸送量和噴霧頭的工作頻率決定。通常情況下,噴霧頭工作頻率越高霧化處理能力越低。液體的zui小霧化量可達1μl/min。各種各樣的涂料、化學試劑、潤滑油、顆粒懸浮液等均可被霧化。但是,液體的粘稠度、可混合性、固體含量等均需要被考慮。對于*霧化效果,液體粘稠度應在50cps下,固體含量應低于30%。因為霧化過程受液體膜所產生的運動效果影響因為霧化過程受液體膜所產生的運動效果影響,高粘稠度勢必造成低霧化量,給應用帶來困難。由于高聚合物分子具有高度的內聚力,霧化含有高聚合物分子的液體,即使是在沖淡情況下也是存在問題的。大多時候,固體顆粒混合液是可以被霧化的。因為固體顆粒會分散于霧化顆粒當中。甚至是粗雜的泥漿,在低速傳給噴頭的情況下也是可以被霧化的。與傳統壓力噴頭相比,噴頭的給液通道和噴孔都相對比較大,從而達到無堵塞噴霧霧化顆粒大小基本上是工作頻率的函數,頻率越高,霧化顆粒越小。



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