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TF1200-PECVD PECVD石墨烯生長(zhǎng)制備爐

參考價(jià) 1688
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 昆山艾科迅機(jī)械有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) TF1200-PECVD
  • 產(chǎn)地 江蘇蘇州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2017/5/6 13:55:27
  • 訪問次數(shù) 551

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昆山艾科迅機(jī)械有限公司是上海同濟(jì)大學(xué)在高溫爐方面潛行研究數(shù)十載,應(yīng)昆山市委市政府號(hào)召及廣大客戶強(qiáng)烈要求于昆山市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)創(chuàng)立。公司專注于電爐生產(chǎn)與銷售,公司擁有面積10000余平方米的專業(yè)化標(biāo)準(zhǔn)作業(yè)車間及辦公場(chǎng)地,年生產(chǎn)量1000余臺(tái),擁有一批具有材料、機(jī)械、電子、自動(dòng)化等方面有著高水平的專業(yè)知識(shí)和豐富的經(jīng)驗(yàn),為我司優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品提供了Z有力的技術(shù)保障。其中高級(jí)顧問團(tuán)6人,專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)16人,技術(shù)工人30人的電爐事業(yè)精英團(tuán)隊(duì)。

以*的科學(xué)設(shè)計(jì)、*的制作工藝、和強(qiáng)大的科研團(tuán)體為廣大科研院所、大學(xué)院校及工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室提供專業(yè)的儀器設(shè)備和高品質(zhì)的服務(wù)。我們本著“為人類創(chuàng)造較好的科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備”為使命;堅(jiān)持誠信、責(zé)任、健康、科學(xué)發(fā)展、創(chuàng)造客戶價(jià)值并有效滿足客戶需求為基本準(zhǔn)則;以品德和能力贏得信任,以貢獻(xiàn)贏得回報(bào)的客戶價(jià)值觀;以人為本、理性追求、變革創(chuàng)新、*經(jīng)營(yíng)、協(xié)作共享的核心價(jià)值觀。致力于成為高溫電爐設(shè)備領(lǐng)域的“科技創(chuàng)新”,堅(jiān)持“創(chuàng)新科技、服務(wù)未來”的經(jīng)營(yíng)理念,實(shí)施“以技術(shù)合作為基礎(chǔ),強(qiáng)化自主創(chuàng)新,樹立技術(shù)優(yōu)勢(shì)”的技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略;我們的口號(hào)是“愛科學(xué)、愛生活”。

     公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、球磨機(jī)及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備。也可根據(jù)客戶需求定制各式爐型,以滿足高校、科研院所和工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、氣氛還原和質(zhì)量檢測(cè)之用,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于材料、物理、化學(xué)、冶金、化工、新型能源開發(fā)等領(lǐng)域。產(chǎn)品從原材料采購、生產(chǎn)制作、包裝檢驗(yàn),嚴(yán)格的按質(zhì)量安全體系,確保品質(zhì)。另外,我公司還提供完善的售后服務(wù)體系,您在購買產(chǎn)品后遇到疑難問題時(shí),我們將*時(shí)間為您排憂解難,竭力為科學(xué)進(jìn)步和社會(huì)發(fā)展做出貢獻(xiàn)。

高溫爐,馬弗爐,氣氛爐,管式爐,真空爐

PECVD石墨烯生長(zhǎng)制備爐,滑軌式設(shè)計(jì)在操作時(shí)可將實(shí)驗(yàn)需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置,可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力,帶刻度的調(diào)節(jié)閥對(duì)于做低壓CVD非常簡(jiǎn)單實(shí)用,工藝重復(fù)性好,對(duì)于石墨烯生長(zhǎng)工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實(shí)驗(yàn)。

PECVD石墨烯生長(zhǎng)制備爐特征描述 

此款設(shè)備配有Plasma實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng),滑軌式設(shè)計(jì)在操作時(shí)可將實(shí)驗(yàn)需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置,可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力,帶刻度的調(diào)節(jié)閥對(duì)于做低壓CVD非常簡(jiǎn)單實(shí)用,工藝重復(fù)性好,對(duì)于石墨烯生長(zhǎng)工藝非常合適,也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實(shí)驗(yàn)。

 

功能及特點(diǎn)

1、利用輝光放電產(chǎn)生等離子體電子激活氣相;

2、提高了氣相反應(yīng)的沉積速率、成膜質(zhì)量;

3、可通過調(diào)整射頻電源頻率來控制沉積速率;

4、能廣泛用于:石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長(zhǎng)。

 

技術(shù)參數(shù)

 



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