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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>WBDQC-4 微波等離子化學氣相沉積系統,WBDQC-4,石墨烯,納米材料,鍍膜

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WBDQC-4 微波等離子化學氣相沉積系統,WBDQC-4,石墨烯,納米材料,鍍膜

具體成交價以合同協議為準

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


維克特銳(北京)科技有限公司是集自主研發、生產、銷售為一體的綜合性*公司。公司匯集電子、制冷、設計、制造等多方面的人才,吸收國內外*技術;技術顧問由國內的制冷和超聲波設備領域的專家*擔任,同時引進一批*的檢測設備,確保產品質量的可靠性。
 
 公司已在北京、廣東、山東、河南、湖南、江蘇、江西等全國多個地區成立了*中心,更好的為用戶解決售前、售中、售后的服務。
 
 我們是一個充滿生機和蓬勃發展的企業。我們以親切、開放、嚴謹的公司文化和科學規范的管理,凝聚著大量的優秀人才,擁有由優秀的職業經理人組成的管理團隊和由*專家組成的技術團隊,他們在產品開發、推廣和維護方面默契合作,深刻理解“以客戶需求為中心”的含義,將“服務 質量”貫穿于公司運作和管理的每一個細節,贏得客戶廣泛的信任和支持。


 我們堅信,只要以市場為導向,以創新為動力,以質量求生存,以發展求壯大,我們就一定會贏得更好的明天。

微波馬弗爐,燒結爐,灰化爐,微波管式爐,化學反應器,坩堝熔煉爐,土壤重金屬檢測儀,鹵素檢測儀,搖床

微波材料學工作站--微波等離子化學氣相沉積系統

主要用途:

該系統既可用作傳統的化學氣相沉積設備,又可用作微波能化學氣相沉積設備,同時又是微波等離子化學氣相沉積設備

主要為應用在半導體, 大范圍的絕緣材料,大多數金屬材料和金屬合金材料,石墨烯、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域

該款具有高電離、高電子溫度和電子密度、適用壓強范圍寬、無內部電極污染等優異性能,微波等離子體在材料表面處理、金剛石薄膜制備、化學氣相沉積、刻蝕以及甲烷轉化制氫、長余輝發光材料、陶瓷燒結、碳納米管修飾[3]、納米粉體合成、處理水污染等領域

 

產品特點:

垂直反應器的設計可使等離子高密度;對稱的微波發生器裝置,使產生的等離子環境更均勻

諧振腔內沒有內部電極,可以避免電極放電所產生的污染,而且,它的運行氣壓范圍比較寬,所產生等離子體密度高、區域大,穩定性高,且不與真空器接觸,從而避免了器壁對薄膜的污染

操作便捷:氣路連接方式采用了KF快速連接法蘭結構,使取放物料過程簡化,只需一支卡箍便可完成氣路連接,方便操作,取消了復雜的法蘭安裝過程,減少了安裝造成的損壞

多功能:4種加熱方式可選可變:微波等離子、純微波、傳統電加熱、混合加熱;適應包括金屬與合金在內非易燃的任何樣品的熱處理

雙溫區結構:上部等離子區或加熱區下部樣品臺加熱區

*開發的微波場傳感器,精準控溫

安全:*采用防止泄漏的聯鎖保護屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔體設計,多重防泄漏保護

*標配裝有專業微波抑制器

*內置微波泄漏傳感器

節能:使用壽命長:磁控管微波加熱,避免和解決了傳統的加熱絲、硅碳棒、硅鉬棒等加熱元件容易損壞的問題,也避免了因加熱元件損壞而造成的時間、實驗進度、維修費用等各種損失

采用無級可調、高穩定度長壽命、連續波微波源,確保設備能夠連續穩定長時間運行

嵌入式微機一體化溫度控制系統實現穩定性控溫

無須烘爐過程:爐腔整體自身發熱,加熱均勻

微波能量即開即有,無熱慣性,易于控制溫度

配有萬向輪調節底腳,方便移動和固定

 

技術參數:

型號/model

WBDQC-4

可加熱材料

非易燃易爆的任何材料

微波頻率

2.45GHZ±50MHz

加熱方式

等離子加熱、純微波加熱、傳統電加熱、混合加熱

zui大功率/ KW(連續、可調)

4

樣品腔長度

標配100mm可根據用戶需求訂制

加熱樣品腔(材質)

石英管(微波等離子工作模式)

石英管&剛玉管(其它加熱方式)

控溫范圍/

1100℃石英樣品腔直徑:Φ45mm、Φ60mm、Φ100 mm 可選;

1500℃剛玉樣品腔直徑:Φ45mm、Φ60mm 可選;

溫度測試元件

微波場傳感器

溫度分辨率/

0.1

樣品臺zui高溫度范圍

室溫-1200℃、更高溫度可選配

控溫精度/

 

1200℃以下±11200℃以上±2

溫度偏差/

溫度穩定波動度/

冷卻方式

風冷

恒溫區長度/mm

標配100mm可根據用戶需求訂制

升溫速率(標配)

0200/min(微波等離子工作模式除外)

任意設定,可編程、分段加熱

溫度控制方式

10段可設工藝參數,7寸觸摸屏操作,帶數據存儲功能;提供手動、自動、恒溫控制模式,曲線實時顯示

控制氣體

控制氣體:H2CH4ArN 2 、其它氣體可選

流量控制

標配 2 套質量流量控制器:七星華創(真空保護閥門后置,匹配真空模式);精度:0.8%

zui大耐壓

1MPa;控制響應時間:10ms

真空系統真空泵

RVP2008;壓力范圍:10 -3 Torr~760 Torr

zui大抽速:8.5m 3 /h

真空計

數顯真空計:1atm-10 -1 Pa

標配

質量流量自動控制系統配備控制計算機及控制軟件,可以內置實時顯示和保存生長參數

氣路其他配置

氣柜、氣路及閥門等

端口

不銹鋼 KF50 法蘭接口

電源電壓(V

220

微波泄漏量/ mW/2

0.4

外型尺寸(長´´高)/mm

1100×750×1900

提供相關配件

高溫手套×1

 

選配功能:

質量流量控制系統;美國Alicat質量流量&控制器

 

 



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