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工業顯微鏡 LV150N/LV150NL/LV150NA 新的光學系統令 ECLIPSE煥發新風采 CFI60-2 經過改進的光學性能 經過進一步改進,具有* 的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。 輕松的操作 與數碼相機集成 現可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息,以及對顯微鏡進行電動操作,以更高效地進行觀察和圖像拍攝 觀察方法 可支持多種觀察方法:明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量等。 |
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工業顯微鏡 LV150N/LV150NL/LV150NA 新的光學系統令 ECLIPSE煥發新風采 CFI60-2 經過改進的光學性能 經過進一步改進,具有* 的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。 輕松的操作 與數碼相機集成 現可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息,以及對顯微鏡進行電動操作,以更高效地進行觀察和圖像拍攝 觀察方法 可支持多種觀察方法:明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量等。 |
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