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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機械設(shè)備>粉碎設(shè)備>研磨機>CMS2000 催化劑高速膠體磨

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CMS2000 催化劑高速膠體磨

參考價 238567
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海依肯機械設(shè)備有限公司
  • 品牌
  • 型號 CMS2000
  • 產(chǎn)地 松江區(qū)陳春公路700號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2016/1/22 8:56:15
  • 訪問次數(shù) 296

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


~ 上海依肯機械設(shè)備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),依肯通過引進德國IKN技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術(shù)同步,同時擁有xx的技術(shù)研究人才和生產(chǎn)能力,為中國及提供多元化的產(chǎn)品及技術(shù)服務(wù)。她已經(jīng)發(fā)展成為中國流體高剪切混合設(shè)備行業(yè)的XX者。
      公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領(lǐng)域的幾大系列:一乳化機(乳化機,高剪切乳化機,管線式乳化機)二 均質(zhì)機,三 分散機,四 膠體磨,五 乳化泵,六 研磨機,七濕法粉碎機,九成套設(shè)備等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領(lǐng)域提供高品質(zhì)的解決方案,設(shè)備加工材料細(xì)度可達微納米級別。依肯公司作為國內(nèi)的XX供應(yīng)商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術(shù),乳化均質(zhì),粉液混合技術(shù)和合理的配置方案,確保設(shè)備運行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應(yīng)用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細(xì)化工等領(lǐng)域,并成功為x'x工程配套,部分產(chǎn)品返銷國外,取得了顯著的經(jīng)濟效益和社會效益。

“追求*品質(zhì)”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創(chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標(biāo)。上海依肯機械設(shè)備有限公司將以求實、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場。在您在關(guān)注和支持下、她將以不斷發(fā)展壯大,在分散乳化均質(zhì)粉碎設(shè)備制造的廣闊天地中散發(fā)出*的魅力。

 

 

乳化機,膠體磨,分散機,粉液混合機,納米乳化機,納米分散機,納米研磨機,納米粉碎機,高速膠體磨

催化劑高速膠體磨,催化劑粉碎機  ,催化劑研磨設(shè)備是 透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

 

催化劑 催化劑在化工行業(yè)用于催化和加速化學(xué)反應(yīng)。催化劑的造價通常比較高,用量比較少,由無機物衍生而成(如重金屬)。催化劑用來為化學(xué)反應(yīng)提供適合的場所,或者成為其中的一種反應(yīng)物,以促進反應(yīng)。在這兩種情況下,催化劑的活性都是由催化劑與反應(yīng)物質(zhì)的接觸狀況(有效分散)決定的,不斷擴充催化劑表面積(防止結(jié)塊,縮小粒徑等)可增強催化劑活性。實踐證明,IKN工業(yè)設(shè)備可以保證催化劑活性得到zui大程度的發(fā)揮。增加收益。IKN分散頭的特殊設(shè)計確保*分散,使催化劑與反應(yīng)物*接觸。更值得一提的是,定轉(zhuǎn)子的高剪切作用(詳見技術(shù)信息)保證消除結(jié)塊,恢復(fù)原有接觸面,獲得*反應(yīng)收益率。

縮短工藝時間。由IKN工業(yè)設(shè)備在高速率下產(chǎn)生的高剪切作用,保證催化劑和反應(yīng)物迅速的分散為一相,并加速反應(yīng)。IKN工業(yè)設(shè)備輸入的高能量也能幫助加速反應(yīng)轉(zhuǎn)化率。

 

催化劑高速膠體磨的粉碎效果 

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g -轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN -轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

 

 

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

IKN 膠體磨   14000轉(zhuǎn)膠體磨



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