AE-100M白光干涉儀AE-100M的詳細資料：白光干涉儀AE-100MAE-100產品用途 結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優(yōu)點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測。應用領域包含產品特點● 奈米深度3D檢測● 高速/無接觸量● 表面形狀/粗糙度分析● 非透明/透明材質皆適用● 非電子束/非雷射的安全量測● 低維護成本專業(yè)級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）● 提供多功能又具親和接口的3D圖形處理與分析● 提供自動表面平整化處理功能● 提供高階標準片的軟件自校功能● 深度/高度分析功能提供線型分析與區(qū)域分析等兩種方式● 線型分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Rorghness）與起伏度● （waviness）的測量分析?？商峁┒噙_17種的ISO量測參數與4種額外量測數據（Wafer）● 區(qū)域分析方式提供圖形分析與統(tǒng)計分析。● 具有平滑化、銳化與數字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能。● 量測分析結果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出高速精密的干涉解體軟體（ImaScan）● 系統(tǒng)硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光干涉條紋● 垂直高度可達0.1nm● 高度的分析算法則，讓你不在苦候測量結果● 垂直掃描范圍的設定輕松又容易● 有10X、20X、50X倍率的物鏡可供選擇● 平臺XYZ位置數顯示，使檢標的尋找快速又便利● 具有手動/自動光強度調整功能以取得*的干涉條紋對比?！?具有高精度的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇?！?具有的解析算法則可處理半透明物體的3D形貌?！?具有自動布補點功能● 可自行設定掃描方向技術規(guī)格參數型號AE-100M移動臺（mm）平臺尺寸100*100 ，行程13*13物鏡放大倍率10X20X50X觀察與量測范圍0.43*0.320.21*0.160.088*0.066光學分辨率（um）0.90.690.5收光角度（Degrees）172333工作距離7.44.73.4傳感器分辨率640*480像素機臺重量（kg）/載重kg20kg/小于1kgZ軸移動范圍45mm , 手動細調Z軸位置數字顯示器分辨率1um傾斜調整平臺雙軸/手動調整 高度測量測量范圍100（um）（400um ,選配）量測分辨率0.1mm重復精度≤ 0.1％ （量測高度:>10um）≤10um（量測高度1um 10um）≤ 5nm（量測高度:<1um ）量測控制自動掃描速度（um/s）12（zui高） 光源光源類型儀器用鹵素（冷）光源平均使用壽命1000小時100W 500小時（150W）光強度調整自動/手動 數據處理與顯示用計算器*處理運算屏幕雙核心以上CUP影像與數據顯示屏幕17 " 雙晶屏幕操作系統(tǒng)Windows XP（2）電源與環(huán)境要求AC100 --240 V 50-60Hz環(huán)境震動VC-C等級以上 量測與分析軟件量測軟件ImScan量測軟件具VSI/ PVS/PSI 量測模式（PSI量測模式需另選配PSI模塊搭配）PosTopo 分析軟件分析軟件ISO 粗燥度/階高分析，快速傳利業(yè)轉換和濾波，多樣的2D和3D觀測視角圓，外形/面積/體積分析，圓像縮放、標準影像文件格式轉換報表輸出，程序教導量測等。