本公司生產(chǎn)的橢偏儀適用于大學和科研院所，具有高精度和完整的測量功能。儀器的狀態(tài)調(diào)整、參數(shù)設置、數(shù)據(jù)采集和處理，均通過計算機自動完成。從紅外至紫外的寬廣光譜區(qū)，波長連續(xù)可調(diào)，入射角度在20度到90度內(nèi)連續(xù)可調(diào)。產(chǎn)品主要有兩個系列:1.全自動高精度橢圓偏振光譜儀（ELLIP-SR型）－專業(yè)型 主要適用于科研院所的信息光電子功能薄膜、體材料的光學性質(zhì)和結(jié)構(gòu)特性研究，可被研究材料種類包括：金屬和合金、元素和化合物半導體、絕緣體、超導體、磁性和磁光材料、有機材料、多層薄膜材料等。在測量中，可按研究條件同時對入射角和波長進行自動精細掃描，增加研究的靈活性，便于用戶獲得更多的光譜信息進行數(shù)據(jù)分析，提高研究的質(zhì)量和可靠性。該光譜儀的性能指標達到同類技術(shù)的*水平 。主要技術(shù)參數(shù)： 波長范圍 250-830nm(可按需拓展) 光源 氙燈入射角范圍 20-90度 波長分辨率 1.0nm 入射角范圍 20-90度 入射角精度 0.001度 橢偏參數(shù)精度 D±0.02度；Y±0.01度 光學常數(shù)精度 優(yōu)于0.5％ 膜厚準確度 ±0.1nm 測量方式 同步 定標方式 自洽、 探測器 光電倍增管 主要用途： 1. 各種功能材料的光學常數(shù)測量和光譜學特性分析； 2. 測量薄膜材料的折射率和厚度； 測量對象包括：金屬、半導體、超導體、絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、薄膜材料、光電材料、非線性材料； 測量光學常數(shù)：復折射率的實虛部、復介電常數(shù)的實虛部、吸收系數(shù)a、反射率R. 　2.全自動單波長橢圓偏振光譜儀（ELLIP-ER型）-普及型 。本公司研制的固定波長可變?nèi)肷浣菣E圓偏振光譜儀，廣泛適用于大學教學和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域，具有很高的性價比，為一款普及型的光譜測試儀器。 主要技術(shù)參數(shù)：波長 650nm 光源 半導體激光器 入射角范圍 20-90度 測量模式 反射 測量方式 旋轉(zhuǎn)起偏和檢偏器，自動完成信號測量 實測光學常數(shù)種類 復折射率 復介電常數(shù) 吸收系數(shù) 反射率 膜厚精度 ±1nm 系統(tǒng)定標方式 自洽、定標 　 主要用途： 1.各種功能材料的光學常數(shù)測量和光譜學特性分析； 2.測量薄膜材料的折射率和厚度； 測量對象包括：金屬、半導體、超導體、絕緣體、非晶體、超晶格、磁性材料、光電材料、非線性材料；測量光學常數(shù)：復折射率的實虛部、復介電常數(shù)的實虛部、吸收系數(shù)a、反射率R.