GV10x電鏡等離子清洗器

    GV10x 是由Ibss Group和一個擁有的等離子源的*共同合作開發并生產的新一代專門清洗腔體的等離子清洗系統。GV10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態下運行，它比以往傳統方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳氫污染。它能夠去除掃描電子顯微鏡(SEM)圖像中的假象; 使電子顯微鏡*的保持高分辨率和束流穩定性。不但能夠消除掃描電子顯微鏡圖像中的黑色掃描方框，針對聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳污染同樣能得到很好的控制效果。

     GV10x等離子清洗器是應用于真空腔體中的原位清洗機的一個全新*。憑借精妙的順流工藝，GV10x等離子清洗器比*代方法更加有效和均勻10到20倍地去除碳和碳氫污染。分子泵也可以安全地運行，而不需要中斷SEM, FIB或TEM系統的軟件控制。

   通常GV10x等離子體清洗器使用空氣或氧氣產生氧的自由基來去除碳氫污染。此外，NIST （美國國家標準技術研究所）研究表明，在GV10x等離子體清洗器中運用氫氣去除沉積在多層鏡面和其它襯底以及氧化敏感的樣品上的碳沉積方面是安全和有效的。

   GV10x等離子體清洗器可以很容易地在幾個不同的實驗室儀器中搬遷。每個腔的清潔周期不同。與普通的等離子清洗機不同的是: 等離子體清洗工藝(經常被稱為遠程等離子處理)并不會產生動力沖擊、濺射損傷或者對樣品加熱。

   GV10x等離子體清洗器能迅速地清潔掃描電子顯微鏡腔內的樣品，允許快速的假象清除，通常僅需幾分鐘的時間，而不需給電鏡腔體放氣。

   Ibss Group的Gentle Asher和GV10x及泵的組合拓展了等離子體清洗技術的應用，即將樣品和TEM樣品支撐桿在插入到電鏡前進行預清洗，從而延長了電鏡清洗的周期。

      GV10x等離子體清洗器是一個全新的清潔腔體的典型技術。這個工藝具有更大的清潔均勻性，可以更加迅速地清除位于真空腔遠角落表面上的碳污染。這些污染能不斷的吸附和重新污染腔體其它部分。由于較大的功率和壓力選擇范圍，GV10x等離子體清洗器可以被運用到除了SEM腔體之外的清洗，比如清洗同步輻射和紫外光學，臨界尺寸掃描電鏡 (CDSEMs)， 檢測性掃描電鏡和X-射線光電子能譜系統，這些系統的大型腔體都需要均勻和快速的清潔。

GV10x等離子清洗器參數：

   功率： 5 ~99 W 連續可調等離子功率

   壓力： - 2 Torr  ~  <5 mTorr (measured at the Source)

• 壓力（大于50 毫托），清洗氣體的平均自由程很短，在靠近等離子源的區域去除污染。
• 壓力（小于50 毫托），清洗氣體的平均自由程比較長，能均勻的碳污染的清除。同時，清洗發生在分子泵能安全運行的壓力下。

    柔和： 使用中性氧或氫的自由基通過非動力學過程，灰化氣相的碳氫化合物和表面碳。