產品介紹：P-1等離子表面活化處理系統

P-I等離子表面活化處理系統是一款業內使用zui多的，集等離子清洗、等離子刻蝕（Plasma Etching）、反應離子刻蝕（RIE）為一身的多功能。 目前在世界各地的許多不同領域均有該款在運行之中。 例如，P-1被發現被廣泛用于醫療、半導體、電子，PCB（印刷電路板）、工業制造和太陽能電池領域。P-1是一款真正杰出的等離子表面處理系統設備。

P-1可在兩種*的等離子處理模式下運行：

1）普通等離子處理模式：等離子清洗機、等離子刻蝕機模式；
2）RIE反應離子刻蝕處理模式： -反應離子刻蝕（RIE）的等離子體處理模式；

P-1縱覽
對于批量等離子表面處理的好處是更好的附著力或打標，更清潔的部件；而使用更少的勞動力和化學品費用減少，無需消除不受歡迎的化學廢物而花費昂貴的處理的清理和涂刷費用。 較大的鋁質真空艙可容納一個寬大需要活性等離子表面清洗的工件；標準配置包括5套等離子處理工件架，可提供13600平方厘米（cm²）的可用等離子處理加工區。

P-1標準配備觸摸屏控制，這使得控制處理非常容易，因為程序或參數被保存，以備將來使用。可以很容易地保持生產和運行在一個標準的、用戶友好的自定義軟件和程序之中，P-1操作非常容易。更加客戶配置定制電極，以滿足不同產品工件的大小和間距的要求，而不收取額外費用。

P-1特點

直觀且簡單易用的觸摸屏界面控制每一個等離子清洗過程的環節，從而確保可靠性和可重復性。

P-1控制臺結構緊湊，從而占用很小的空間。真空泵浦系統提供特別準備的真空泵，可與氧氣服務。 真空泵系統配以兩點氮氣（N2）吹掃系統，以減輕腐蝕性副產品在真空泵浦系統中的產生，從而延長了真空泵浦系統的使用壽命和降低使用鹵化氣體系統的維護周期。

P-1真空艙及電極可按客戶配置定制，以滿足客戶對的要求;，如 RIE（反應離子刻蝕）、半導體引線框架盒、水平和垂直旋轉電極。

P-1規格

標準P-1配置
鋁合金真空艙：63.50 cm 寬  x  63.50 cm深  x 53.00高
電極設置：五套 51.00cm  X 53.00cm水平電極，每套電極板間隔7.6cm
射頻電源：600瓦@13.56MHz射頻電源;自動匹配器網絡  
工藝氣體控制：單套500 SCCM質量流量控制器 （MFC）
真空監測系統：皮拉尼真空計0-1托
控制器系統：微處理器系統，配備觸摸屏界面
工藝程序存儲功能：可存儲多達20個雙步驟程序
真空泵浦系統：29 CFM氧氣服務真空泵系統，配備油霧分離器

可選配P-1配置
靜電屏蔽；
工藝溫度控制；
1250瓦@13.56MHz 射頻電源；
59 CFM氧氣服務真空泵系統；
355 CFM真空增壓機；
RIE（反應離子刻蝕）電極配置；
低供應壓力氣體報警器；
微軟計算機控制系統，配備觸摸屏接口；
直觀的等離子體刻蝕操作軟件，具備數據報告、事件監控、打印功能；
信號燈塔、活躍真空控制器、 4套質量流量控制器（MFC）；
自動兩點氮氣（N2）真空泵吹掃、真空艙氮氣（N2）吹掃速度控制；
真空泵排氣油霧凝聚式過濾器
其它按客戶需求定制的真空艙及電極設置；

其它可選配配置
閉環式射頻電源冷卻器
填充床煙氣洗滌器
壓縮空氣干燥機（吹掃氣體發生器）

P-1規格
重量：約 550公斤
真空泵浦重量：約70公斤
占地尺寸：180 cm  X  92cm  X 82cm
真空泵浦占地尺寸：41cm X 77cm X 44cm

P-1設備外部安裝要求
電源：交流，3相30安培，
壓縮空氣：0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
系統環境溫度：29攝氏度
工藝氣體壓力：0.10 MPa

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