采用W和Mo加熱的金屬爐可以達到超高真空度和超純凈氣氛的操作要求。金屬爐的金屬加熱元件和金屬隔熱屏適合高溫高真空度應用，不會與樣品發生反應。

除了可以應用高真空條件，還可以根據需要加載氮氣，氬氣，氫氣或其他混合氣體。

真空度在10-6 至1000 mbar的范圍。

優點概述：

- zui高工作溫度達 2200°C
- 高純度保護氣氛 (6N 或更高)
- 高真空度 (zui高可達10-6 mbar)
- 動態高溫, 加熱或冷卻迅速
- 可提供氫氣分壓控制
- 混合氣體中各氣體壓力控制在10 - 1000 mbar
- 溫和地抽真空控制更適合粉末樣品
- 金屬支架
- 可燃性和有毒氣體的安全控制
- 復合程序控制，全自動操作
- 質量管理體系，每日記錄數據

應用：

釬焊，排氣，燒結，晶體生長，金屬注射成型（MIM）

回火，快速成型，脫膠，合成，干燥