| EMS300R T大樣品離子濺射鍍膜儀Large Chamber Sputter Coaters | |
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| 適合SEM（掃描電鏡）、FE-SEM（場發射掃描電鏡）、TEM（透射電鏡）。 EMS300R T 與EMS150R T相似，明顯區別是EMS300R T腔室足夠大，達到203mm，采用旋轉真空泵抽真空；此外，它配備三個獨立的濺射頭，確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀、鉑等。（注意：既能濺射不易氧化金屬，又能濺射易氧化金屬，另見EMS300T T） 。 
特征參數 1、 可以進行超大樣本（直徑至203mm）的金屬鍍膜 2、 三個濺射頭確保濺射沉積質量 3、 單靶材選擇功能，可以進行小樣本鍍膜 4、 多種金屬靶材比如金、金/鈀、鉑等可選 5、 選擇裝配膜厚監測儀可以精確控制膜厚 6、 全自動觸摸屏控制，快速數字輸入，操作簡便 7、 可以儲存不同用戶的程序 8、 能夠記錄100個鍍膜細節 9、 真空自動控制，且具有真空保持功能 10、 落入式樣品臺拆裝方便（標配是旋轉樣品臺） 11、 zui長60分鐘不間斷鍍膜能力 12、 符合人體工程學的整體注塑機身 13、 電氣符合CE要求 14、 三年質保 樣品臺 EMS300R T有多種型號的樣品臺可以選擇，用于滿足目前大部分需求。落入式設計使得不同型號的樣品臺之間更換簡便，樣品臺除了行星臺外其高度均可調，旋轉速度在預設范圍內實現可調。 - 扁平樣品臺，用于晶圓的鍍膜（152mm-203mm），標配
- 旋轉樣品臺，50mm，不能傾斜
- 旋轉傾斜樣品臺，50mm，高度可調（靶材與樣本之間的距離在30-80mm之間可調），傾斜角度在0-30度之間
- 用于撥片的旋轉臺
加高腔室：需要時可以得到（付費） 儀器參數： | 儀器外形尺寸 | 585mm W x 470mm D x 410mm H （total height with coating head open: 650mm） | | 重量 | 36.4kg | | 包裝尺寸 | 725mm W x 660mm D x 680mm H （44.8kg） | | 工作腔室 | 高硼硅玻璃283mm ID x 127mm H | | 安全保護 | 整體PET套筒 | | 顯示 | 145mm x 320mm x 240mm TFT彩顯 | | 使用者界面 | 直觀的圖形界面，觸摸鍵。記憶功能：維護提醒及zui后100個鍍膜方案日志記錄 | | 濺射靶材 | 標配三個57 mm Ø x 0.1 mm金靶 （SC502-314A） | 真空 | 旋轉真空泵 | 50L/m two-stage rotary pump with oil mist filter. Order separay, 91005. | | 真空監測 | 皮拉尼測量 | | 極限真空度 | 潔凈系統可達 2x10-2 mbar，充氮氣 | | 樣品臺 | 標配晶圓樣品臺，152mm-203mm，旋轉速度可調。 | | 濺射 | 根據鍍膜厚度或內置的計時器，濺射電流范圍在0-80mA ，zui長濺射時間不超過60分鐘 | 其它重要信息 | 需要氣體 | 氬氣 99.999%，氮氣可選（排氣時需要） | | 電源 | 90-250V 50/60Hz 1,400VA including RV3 rotary pump power. （注意電壓的選擇） | | 電氣標準 | 符合電氣CE認證要求 | 訂購信息： | 貨號 | 產品 | 規格 | | EMS300R T | EMS300R T 大樣品離子濺射鍍膜儀Large-Chamber-Rotary-Pumped Sputter Coater, fitted with three sputtering heads to ensure even metaldeposition. Include three 57mm Ø x 0.3mm gold （Au） sputter targets. A flat rotation stage for 8”/203 mm/and 6”/152 mm wafers is fitted as standard | EACH | | 91005 | 愛德華旋轉真空泵（單獨購買）Edwards RV5 90L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter | EACH | 更多信息請：海德公司hedebio | | |
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