關注納米技術產業發展 天仁微納攜納米壓印光刻設備亮相納博會
【化工儀器網 展會報道】2024年10月23日至25日，第十四屆中國國際納米技術產業博覽會(以下簡稱：納博會)在蘇州國際博覽中心舉辦。大會由峰會、展覽、大賽、對接會等部分組成，重點聚焦納米新材料、微納制造、第三代半導體、納米壓印、納米大健康、能源與清潔技術、納米生物技術等產業領域，是我國納米技術應用產業大規模國際性盛會，同時也是企業、高校及科研單位進行納米技術產業交流合作的重要平臺。
此次納博會吸引了全球納米科技領域的優質企業及眾多行業內的精英匯聚一堂，共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責任公司(以下簡稱：天仁微納)作為參展企業之一，攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設備、UniPrinter桌面型納米壓印光刻設備等產品亮相展會。
天仁微納成立于2015年，是專業的微納加工設備和解決方案提供商。公司自成立以來始終專注于納米加工領域，核心競爭力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。目前天仁微納產品與服務涵蓋納米壓印相關的設備、模具、材料、工藝以及生產咨詢。憑借自身領先的技術、完善的售后服務和快速的市場應對能力，天仁微納在納米壓印領域取得了顯著的市場地位。
GL300 Cluster 200/300mm全自動納米壓印光刻生產線
天仁微納此次推出的GL300 Cluster是功能強大的全自動納米壓印光刻生產線，它集成了從納米壓印晶圓預處理工藝，直至納米壓印光刻全套工藝步驟。產品標配天仁微納CLIV(Contact Litho into Vacuum)壓印技術，可實現200/300mm基底面積上全自動高精度、高深寬比納米結構復制量產。
設備采用模塊化設計，用戶可以根據工藝需求和生產節奏自由配置晶圓清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測、Post Cure以及納米壓印的模塊數量，達到最優的生產效率。此外，GL300 Cluster還支持全自動工作模具復制、工作模具自動更換、自動預處理和自動對位、自動壓印、自動脫模，全部工藝過程在密閉潔凈環境中進行，以保證壓印結果質量。
GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設備
GL8 CLIV Gen2是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設備，產品同樣標配天仁微納CLIV壓印技術，可在200mm以下晶圓面積上實現高精度(結構精度優于10納米)、高深寬比(深寬比優于10：1)納米結構復制。
GL8 CLIV Gen2支持自動復制柔性復合工作模具，工作模具具有精度高、壽命長等特點，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。CLIV技術的應用保證了納米壓印結構的精度與高深寬比結構的完整填充，同時保證了大面積結構壓印均勻性。
UniPrinter桌面型納米壓印光刻設備
UniPrinter是一種專門為大學、科研院所和企業產品研發所設計，操作簡單、功能強大的臺面型納米壓印光刻設備。產品可實現4英寸以下晶圓面積上高精度、高深寬比納米結構壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開發，器件原型快速驗證，納米壓印材料測試等研發。設備內自動復制柔性復合工作模具，自動壓印、自動曝光固化、自動脫模，工藝過程無需人工干預。同時設備還沿用了天仁微納量產型納米壓印設備的工藝與材料體系，在該設備上開發的工藝可以無障礙轉移到天仁微納量產設備上進行生產。
納米壓印技術已經發展了二十余年，隨著技術的不斷進步和成本的降低，納米壓印技術逐漸受到市場的關注，并在越來越多領域得到應用。由于納米壓印技術的加工過程不使用可見光或紫外光加工圖案，而是使用機械手段進行圖案轉移，這種方法能達到很高的分辨率，并且模板可以反復使用，大大降低了加工成本、縮短了加工時間，因此納米壓印技術被認為是一種有望代替現有光刻技術的加工手段。
天仁微納作為國內較早涉足納米壓印技術領域技術及產品開發的企業，正用產品引領著納米壓印技術的國產崛起。展會期間我們看到了眾多客戶來到天仁微納的展位進行交流，其中不乏國際友人，這也足以見的天仁微納的實力。
納米壓印技術的發展正需要天仁微納這樣執著于技術的企業來推動。相信在不久的將來，天仁微納會推出更多精度更高、功能更全面的納米壓印光刻設備，而這些設備也將進一步打開光刻技術的發展前景，為納米產業發展做出新的貢獻。
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