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關(guān)注納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展 天仁微納攜納米壓印光刻設(shè)備亮相納博會(huì)
2024年10月25日 15:13:58
來(lái)源：化工儀器網(wǎng) 作者：小王 點(diǎn)擊量：8672
此次納博會(huì)吸引了全球納米科技領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)企業(yè)及眾多行業(yè)內(nèi)的精英匯聚一堂，共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責(zé)任公司(以下簡(jiǎn)稱：天仁微納)作為參展企業(yè)之一，攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備、UniPrinter桌面型納米壓印光刻設(shè)備等產(chǎn)品亮相展會(huì)。
【化工儀器網(wǎng) 展會(huì)報(bào)道】2024年10月23日至25日，第十四屆中國(guó)國(guó)際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)(以下簡(jiǎn)稱：納博會(huì))在蘇州國(guó)際博覽中心舉辦。大會(huì)由峰會(huì)、展覽、大賽、對(duì)接會(huì)等部分組成，重點(diǎn)聚焦納米新材料、微納制造、第三代半導(dǎo)體、納米壓印、納米大健康、能源與清潔技術(shù)、納米生物技術(shù)等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，是我國(guó)納米技術(shù)應(yīng)用產(chǎn)業(yè)大規(guī)模國(guó)際性盛會(huì)，同時(shí)也是企業(yè)、高校及科研單位進(jìn)行納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)交流合作的重要平臺(tái)。
此次納博會(huì)吸引了全球納米科技領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)企業(yè)及眾多行業(yè)內(nèi)的精英匯聚一堂，共襄盛舉。青島天仁微納科技有限責(zé)任公司(以下簡(jiǎn)稱：天仁微納)作為參展企業(yè)之一，攜旗下GL300 Cluster 200/300mm全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線、GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備、UniPrinter桌面型納米壓印光刻設(shè)備等產(chǎn)品亮相展會(huì)。
天仁微納成立于2015年，是專業(yè)的微納加工設(shè)備和解決方案提供商。公司自成立以來(lái)始終專注于納米加工領(lǐng)域，核心競(jìng)爭(zhēng)力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。目前天仁微納產(chǎn)品與服務(wù)涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢。憑借自身領(lǐng)先的技術(shù)、完善的售后服務(wù)和快速的市場(chǎng)應(yīng)對(duì)能力，天仁微納在納米壓印領(lǐng)域取得了顯著的市場(chǎng)地位。
GL300 Cluster 200/300mm全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線
天仁微納此次推出的GL300 Cluster是功能強(qiáng)大的全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線，它集成了從納米壓印晶圓預(yù)處理工藝，直至納米壓印光刻全套工藝步驟。產(chǎn)品標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho into Vacuum)壓印技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn)。
設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置晶圓清洗、涂膠、烘烤、冷卻、Plasma表面處理、AOI檢測(cè)、Post Cure以及納米壓印的模塊數(shù)量，達(dá)到最優(yōu)的生產(chǎn)效率。此外，GL300 Cluster還支持全自動(dòng)工作模具復(fù)制、工作模具自動(dòng)更換、自動(dòng)預(yù)處理和自動(dòng)對(duì)位、自動(dòng)壓印、自動(dòng)脫模，全部工藝過(guò)程在密閉潔凈環(huán)境中進(jìn)行，以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。
GL8 CLIV Gen2 200mm高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備
GL8 CLIV Gen2是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備，產(chǎn)品同樣標(biāo)配天仁微納CLIV壓印技術(shù)，可在200mm以下晶圓面積上實(shí)現(xiàn)高精度(結(jié)構(gòu)精度優(yōu)于10納米)、高深寬比(深寬比優(yōu)于10：1)納米結(jié)構(gòu)復(fù)制。
GL8 CLIV Gen2支持自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具具有精度高、壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。CLIV技術(shù)的應(yīng)用保證了納米壓印結(jié)構(gòu)的精度與高深寬比結(jié)構(gòu)的完整填充，同時(shí)保證了大面積結(jié)構(gòu)壓印均勻性。
UniPrinter桌面型納米壓印光刻設(shè)備
UniPrinter是一種專門(mén)為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單、功能強(qiáng)大的臺(tái)面型納米壓印光刻設(shè)備。產(chǎn)品可實(shí)現(xiàn)4英寸以下晶圓面積上高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開(kāi)發(fā)，器件原型快速驗(yàn)證，納米壓印材料測(cè)試等研發(fā)。設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模，工藝過(guò)程無(wú)需人工干預(yù)。同時(shí)設(shè)備還沿用了天仁微納量產(chǎn)型納米壓印設(shè)備的工藝與材料體系，在該設(shè)備上開(kāi)發(fā)的工藝可以無(wú)障礙轉(zhuǎn)移到天仁微納量產(chǎn)設(shè)備上進(jìn)行生產(chǎn)。
納米壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展了二十余年，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和成本的降低，納米壓印技術(shù)逐漸受到市場(chǎng)的關(guān)注，并在越來(lái)越多領(lǐng)域得到應(yīng)用。由于納米壓印技術(shù)的加工過(guò)程不使用可見(jiàn)光或紫外光加工圖案，而是使用機(jī)械手段進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移，這種方法能達(dá)到很高的分辨率，并且模板可以反復(fù)使用，大大降低了加工成本、縮短了加工時(shí)間，因此納米壓印技術(shù)被認(rèn)為是一種有望代替現(xiàn)有光刻技術(shù)的加工手段。
天仁微納作為國(guó)內(nèi)較早涉足納米壓印技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)及產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的企業(yè)，正用產(chǎn)品引領(lǐng)著納米壓印技術(shù)的國(guó)產(chǎn)崛起。展會(huì)期間我們看到了眾多客戶來(lái)到天仁微納的展位進(jìn)行交流，其中不乏國(guó)際友人，這也足以見(jiàn)的天仁微納的實(shí)力。
納米壓印技術(shù)的發(fā)展正需要天仁微納這樣執(zhí)著于技術(shù)的企業(yè)來(lái)推動(dòng)。相信在不久的將來(lái)，天仁微納會(huì)推出更多精度更高、功能更全面的納米壓印光刻設(shè)備，而這些設(shè)備也將進(jìn)一步打開(kāi)光刻技術(shù)的發(fā)展前景，為納米產(chǎn)業(yè)發(fā)展做出新的貢獻(xiàn)。
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