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德國韋氏納米系統（香港）有限公司

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Deposition沉積系統: AT-400原子層沉積 PLD脈沖激光沉積 PA-MOCVD等離子輔助 ALD原子層沉積系統 PECVD等離子化學氣相沉積系 Sputter磁控濺射系統 E-Beam電子束蒸發熱蒸發鍍膜熱蒸發鍍膜離子束刻蝕濺射鍍膜一體機光學元件原子級拋光鍍膜設備

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NLD-3000原子層沉積系統
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型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/6/17 17:06:13 對比

NLD-3000原子層沉積系統
NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統
NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于...

型號：所在地：國外參考價：面議更新時間：2017/3/3 14:26:59 對比

NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統
NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統
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NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統

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